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南興祐 大韓法醫學會 1977 대한법의학회지 Vol.1 No.1
각 사례에 있어 의사가 환자에 대하여 의너 정도의 주의가 필요하느냐 하는 것은 일률적으로 말할 수 없다. 현대 의술의 발달과 치료행위의 기술화, 기계화는 이 문제를 더 복잡하게 하고 있다. 이에 대하여는 재판소의 많은 판결례가 나와야 된다. 그러나 의사의 의료행위는 결과의 문제보다 치료과정이 문제된다. 의사가 진실을 다하여 치료하는 경우에는 의료과실이라는 것은 적어지고 그 책임도 경감된다. 그러니 궁극에 가서는 의사 각자의 논리성의 문제가 된다. 도 형사과실에 있어 「허용된 위험」의 이론이 있다. 의사는 현대의 발달된 의술을 환자에 적용하여 치료하는 경우 어느 정도 위험은 각오하여야 한지 않나 하는 이론도 있으나 생각할 점이 많다. 적어요 의료행위에 있어 인체실험은 허용되지 않는다.
반도체 감쇄위상천이 마스크 설계를 위한 규칙기반 광근접보정법
이흥주 상명대학교 산업과학연구소 2002 産業科學硏究 Vol.- No.12
Design rule shrink에 따라 DRAM의 OPC(Optical proximity Correction) 적용 layer가 gate 위주에서 active, bit-line, metal, contact layer로 확대되는 추세에 있다. 이에 따라 현재의 line bias를 중심으로 한 CD(critical dimension) 보정 방법에 의해서는 다양한 OPC layer의 patterning 문제에 적절히 대처하기 어렵게 되었다. 특히, backend 공정에서 불량을 일으키는 주요원인은 metal과 contact/via의 overlap margin의 부족 때문이다. Sub-0.18㎛ system LSI 제품에서는 overlap margin이 거의 없는 design rule로 metal layer가 설계됨에 따라, 공정에서 overlap error가 발생할 가능성이 높아졌다. 따라서 backend 공정에서 OPC가 필수적으로 적용된다. System LSI 제품의 metal layer에 OPC를 적용하기 위해서는 우선 OPC runset을 제작하고 완벽하게 검증해야 한다. Runset에 대한 검증 후에는 이를 이용하여 다양한 layout의 모든 ASIC 제품에 동일한 OPC가 적용된다. 만일, unset의 검증이 미흡하다면, chip 동작에 치명적인 영향을 주는 mask error가 발생할 수도 있다. 그러므로 불량 발생 방지와 수율 향상을 위해서 OPC runset에 대한 검증을 강화하여야 하며. turn around time(TAT)을 방지하기 위해 OPC법을 개선할 필요가 있다. 따라서, resolution을 향상시키고, 최소한의 overlay margin 확보가 가능하도록 하여야만, 미세 pattern의 구현이 가능하게 된다. 이를 위해 OPC와 attPSM 같은 분해능향상기술이 사용된다. 그러나 attPSM의 사용은 원하지 않는 pattern이 생성되는 sidelobe와 같은 문제가 발생한다. 따라서 aerial image siumlation을 통해 추출한 rule을 rule-based correction에 적용하여 sidelobe현상을 방지한다. 그리고 overlay margin 부족으로 나타나는 문제는 metal layer와 contact이 overlap되는 영역의 line edge를 확장하고, rule checking을 통해 최소한의 space margin을 확보하여 해결한다. 따라서 overlay error를 rule-based correction을 사용하여 효과적으로 방지한다.
崔榮求,鄭光祐,任興淳,金相俠 圓光大學校 基礎自然科學硏究所 1996 基礎科學硏究誌 Vol.15 No.1
Nd:YAG 레이저의 2차 조화파(532㎚)를 사용한 레이저증착방법으로 Pt/Ti/SiO_2/Si 기판위에 Pb(Zr_0.52ti_0.48)O_3(PZT)박막을 제조하였다. PZT박막의 증착에 필요한 최적조건을 찾기 위해서 산소분압, 실리콘기판의 온도, 레이저세기 등을 변화시키면서 증착된 박막의 특성들을 관찰하였다. 최적조건은 기판과 타겟사이의 거리가 20㎜일때 산소분압은 3 torr, 레이저 세기는 1.5 J/㎠, 실리콘기판의 온도는 823―848 K임을 알 수 있다. 이들 조건으로부터 증착된 PZT 박막의 구조는 완전한 perovskite 구조를 나타냈으며, 화학적 조성은 벌크 PZT 타켓의 조성과 동일하였다. C―V 분석결과는 전형적인 강유전체 박막의 이력곡선을 보여주었으며, 박막의 두께가 0.18㎛일 때 유전상수값이 745로 나타났다. Pb(Zr_0.52ti_0.48)O_3(PZT)thin films were deposited onto the Pt/Ti/SiO_2/Si substrate by pulsed laser deposition (PZT) of second harmonic wavelength(532㎚) of Nd:YAG laser. In order to determine optimum parameters for thin film deposition, the characteristics of thin films were investigated as a function of oxygen background pressure, substrate temperature, and laser fluence. When the distance between substrate and bulk PZT target os set to 20㎜, the optimum parameters are observed to be 3 torr of oxygen pressure, 1.5 J/㎠ of laser fluence, and 823―848 K range of substrate temperature. From the measurement of the glancing X―ray diffraction, energy dispersive X―ray, and X―ray photoelectron spectra, it is concluded that the PZT thn film represents a perovskite structure and its chemical composition is very similar to that of PZT bulk target. Capacitance―Voltage hysteresis loop measurements show also a typical characteristics of ferroelectric thin film. The dielectric constant is found to be 745 for the 0.18㎛ thickness of PZT thin film.
윤하섭,김성규,임흥순 성균관대학교 기초과학연구소 1995 論文集 Vol.46 No.2
A laser ionization mass spectrometry (LIMS) has been developed for the analysis of solid samples, which employs a Nd : YAG laser and a time-of-flight mass spectrometer (TOFMS). The high energy laser beam is focused on a sample to vaporize and ionize the compositional elements. And then the ions are detected by TOFMS. The characteristics of LIMS has been investigated for several samples. It is found that the mass resolution (△m/m) is about 205, the spatial resolution on is 0.4Å (24Å/data) and the detection limit is the order of ppm. This method has been applied to indentify the impurities of samples.