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ア ァ カ サ ザ タ ダ ナ ハ バ パ マ ヤ ャ ラ ワ ヮ ン イ ィ キ ギ シ ジ チ ヂ ニ ヒ ビ ピ ミ リ ウ ゥ ク グ ス ズ ツ ヅ ッ ヌ フ ブ プ ム ユ ュ ル エ ェ ケ ゲ セ ゼ テ デ ヘ ベ ペ メ レ オ ォ コ ゴ ソ ゾ ト ド ノ ホ ボ ポ モ ヨ ョ ロ ヲ ―

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ㅥ ㅦ ㅧ ㅨ ㅩ ㅪ ㅫ ㅬ ㅭ ㅮ ㅯ ㅰ ㅱ ㅲ ㅳ ㅴ ㅵ ㅶ ㅷ ㅸ ㅹ ㅺ ㅻ ㅼ ㅽ ㅾ ㅿ ㆀ ㆁ ㆂ ㆃ ㆄ ㆅ ㆆ ㆇ ㆈ ㆉ ㆊ ㆋ ㆌ ㆍ ㆎ
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§ ※ ☆ ★ ○ ● ◎ ◇ ◆ □ ■ △ ▽ → ← ↑ ↓ ↔ 〓 ◁ ◀ ▷ ▶ ♤ ♠ ♡ ♥ ♧ ♣ ⊙ ◈ ▣ ◐ ◑ ▒ ▤ ▥ ▨ ▧ ▦ ▩ ♨ ☏ ☎ ☜ ☞ † ‡ ↕ ↗ ↙ ↖ ↘ ♭ ♩ ♪ ♬ ㉿ ㈜ № ㏇ ™ ㏂ ㏘ ℡ ＃ ＆ ＊ ＠ ª º
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      주제어 : Double-comb-type antenna (검색결과 1 건)
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        Comparison of the Electrical Characteristics of Serpentine-Type and Double-Comb-Type Antennas for Large-Area Plasma Generation

        Jungkyun Park,Geunyoung Yeom,JongHyeuk Lim,Kyongnam Kim 한국물리학회 2008 THE JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY Vol.52 No.2

        The characteristics of a large-size internal-type inductively coupled plasma (ICP) source having a ``double-comb-type" antenna have been investigated for the processing of a large-area flat-panel display substrate having a size of 2,300 mm × 2,000 mm, and its characteristics were compared with those for an ICP source having a ``serpentine-type" antenna. The ICP source with the ``double-comb-type" antenna showed a lower impedance, a higher plasma uniformity, and a higher plasma density compared to the ICP source with the ``serpentine-type" antenna. The measured plasma density and uniformity of the ICP source with the ``double-comb-type" antenna were higher than 8.5 × 10 10/㎤ and lower than 14%, respectively, at a 10 kW rf power and 15 mTorr of Ar. The etch uniformity of the photoresist within the substrate was about 12.5% at a 8 kW rf power and 15 mTorr Ar/O₂ (7 : 3). The characteristics of a large-size internal-type inductively coupled plasma (ICP) source having a ``double-comb-type" antenna have been investigated for the processing of a large-area flat-panel display substrate having a size of 2,300 mm × 2,000 mm, and its characteristics were compared with those for an ICP source having a ``serpentine-type" antenna. The ICP source with the ``double-comb-type" antenna showed a lower impedance, a higher plasma uniformity, and a higher plasma density compared to the ICP source with the ``serpentine-type" antenna. The measured plasma density and uniformity of the ICP source with the ``double-comb-type" antenna were higher than 8.5 × 10 10/㎤ and lower than 14%, respectively, at a 10 kW rf power and 15 mTorr of Ar. The etch uniformity of the photoresist within the substrate was about 12.5% at a 8 kW rf power and 15 mTorr Ar/O₂ (7 : 3).

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