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        플라즈마 보조 유기금속 화학기상 증착법에 의한 MCN(M=Ti, Hf) 코팅막의 저온성장과 그들의 특성연구

        부진효,허철호,조용기,윤주선,한전건,Boo, Jin-Hyo,Heo, Cheol-Ho,Cho, Yong-Ki,Yoon, Joo-Sun,Han, Jeon-G. 한국진공학회 2006 Applied Science and Convergence Technology Vol.15 No.6

        Ti(C,N) 박막을 온도범위 $200-300^{\circ}C$에서 tetrakis diethylamido titanium유기금속 화합물을 전구체로 이용하여 pulsed DC 플라즈마 보조 유기금속 화학기상 증착법 (PEMOCVD)으로 합성하였다. 본 연구에서는 플라즈마 특성을 서로 비교하기 위하여 수소$(N_2)$와 헬륨/수소$(He/H_2)$ 혼합기체를 각각 운반기체로 사용하였으며 전구체 이외에 질소$(N_2)$와 암모니아$(NH_3)$ 기체를 반응기체로 사용하여 서로 다른 플라즈마 화학조건에서 얻어지는 박막내의 탄소함유량(C Content)의 변화를 비교하여 탄소가 가장 적게 함유된 저온 코팅막 합성공정을 찾으려고 하였다. 이를 위하여 증착시 서로 다른 pulsed bias 전압과 기체종류 하에서 여기된 플라즈마 상태의 라디칼종들과 이온화 경향을 in-situ optical emission spectroscopy(OES)법으로 플라즈마 진단분석을 실시하였다. 그 결과 $(He/H_2)$ 혼합기체를 $N_2$와 함께 사용할 경우 라디칼 종들의 이온화를 매우 효과적으로 향상시킴을 관찰하였다. 아울러 $NH_3$ 기체를 $H_2$ 또는 $He/H_2$ 혼합기체와 같이 사용할 경우는 CN 라디칼의 생성을 억제하여 결과적으로 Ti(C, N) 박막내의 탄소함량을 크게 낮춤을 알 수 있었고, CN 라디칼의 농도가 탄소 함유량과 많은 관련이 있음을 알았다. 이 결과는 바로 박막의 미세경도와도 연관이 되며, bias전압과 기체종류에 크게 의존하여 Ti(C, N) 박막의 미세경도가 1250 - 1760 Hk0.01 사이에서 나타났고, 최대치$(1760\;Hk_{0.01})$는 600 V bias 전압과 $H_2$와 $N_2$ 기체를 사용한 경우에 얻어졌다. HF(C, N) 박막 역시 tetrakis diethylamido hafnium 전구체와 $N_2/He-H_2$ 혼합기체를 이용하여 pulsed DC PEMOCVD 법으로 기판온도 $300^{\circ}C$ 이하, 공정압력 1 Torr, 그리고 bias전압과 기체 혼합비를 변화시키면서 증착하였다. 증착시 in-situ OES 분석결과 플라즈마 내의 질소종의 함유량 변화에 따라 증착속도가 크게 변화됨을 알 수 있었고, 많은 질소기체를 인입하면 질소종이 많아지지만 증착률은 급격히 감소하였고 박막내 탄소의 함량이 커지면서 막질이 비정질로 바뀌고 미세경도 또한 감소함을 알 수 있었다. 이는 in-situ 플라즈마 진단분석이 전체 PEMOCVD 공정에 있어서 대단히 중요하고, Ti(C,N)과 Hf(C,N) 코팅막의 탄소함량과 미세경도는 플라즈마내의 CH과 CN radical종의 세기에 크게 의존함을 의미한다. 그리고 Hf(C,N) 박막의 경우도 Ti(C,N) 박막의 경우와 유사하게 최대 미세경도값$(2460\;Hk_{0.025})$이 -600 V bias 전압과 10% 질소기체 혼합비를 사용한 경우에 얻어졌고, 이는 박막이 주로(111) 방향으로 성장됨에 기인한 것으로 사료된다. Ti(C,N) films are synthesized by pulsed DC plasma enhanced chemical vapor deposition (PEMOCVD) using metal-organic compounds of tetrakis diethylamide titanium at $200-300^{\circ}C$. To compare plasma parameter, in this study, $H_2$ and $He/H_2$ gases are used as carrier gas. The effect of $N_2\;and\;NH_3$ gases as reactive gas is also evaluated in reduction of C content of the films. Radical formation and ionization behaviors in plasma are analyzed in-situ by optical emission spectroscopy (OES) at various pulsed bias voltages and gas species. He and $H_2$ mixture is very effective in enhancing ionization of radicals, especially for the $N_2$. Ammonia $(NH_3)$ gas also highly reduces the formation of CN radical, thereby decreasing C content of Ti(C, N) films in a great deal. The microhardness of film is obtained to be $1,250\;Hk_{0.01}\;to\;1,760\;Hk_{0.01}$ depending on gas species and bias voltage. Higher hardness can be obtained under the conditions of $H_2\;and\;N_2$ gases as well as bias voltage of 600 V. Hf(C, N) films were also obtained by pulsed DC PEMOCYB from tetrakis diethyl-amide hafnium and $N_2/He-H_2$ mixture. The depositions were carried out at temperature of below $300^{\circ}C$, total chamber pressure of 1 Torr and varying the deposition parameters. Influences of the nitrogen contents in the plasma decreased the growth rate and attributed to amorphous components, to the high carbon content of the film. In XRD analysis the domain lattice plain was (111) direction and the maximum microhardness was observed to be $2,460\;Hk_{0.025}$ for a Hf(C,N) film grown under -600 V and 0.1 flow rate of nitrogen. The optical emission spectra measured during PEMOCVD processes of Hf(C, N) film growth were also discussed. $N_2,\;N_2^+$, H, He, CH, CN radicals and metal species(Hf) were detected and CH, CN radicals that make an important role of total PEMOCVD process increased carbon content.

      • KCI우수등재

        미얀마 북서부 보피붐 크롬광화대의 지질구조와 광화작용

        류충렬(Chung-Ryul Ryoo),허철호(Cheol-Ho Heo),쪼린아웅(Zaw Linn Aun) 한국암석학회 2015 암석학회지 Vol.24 No.4

        미얀마 북서부 깔레이 시 근처에 보피붐 크롬 광화대가 발달하고 있다. 이 지역에는 크롬광체를 포함하는 백악기의 초염기성암이 서쪽의 제3기 퇴적층을 드러스트 하고 있다. 크롬광체는 초염기성암인 듀나이트와 하즈버자이트 내에 발달하며, 주로 듀나이트 암체 내에 배태되어져 있다. 듀나이트와 크롬광체의 분포방향은 북서-남동 방향이며, 이 지역의 일반적인 지구조 방향인 남-북 방향과는 사교하는 특성을 보이고 있다. 광체의 연장과 발달특성을 파악하기 위해 5개소에서 트렌치조사를 실시하였다. 트렌치에서 관찰되는 크롬광체와 주변의 듀나이트, 하즈버자이트는 심한 연성변형을 보인다. 광체는 m 규모 내외의 폭과 수 m 규모 내외의 연장성을 보이며, 시그모이드나 렌즈상으로 부딘화되어져 있다. 연성변형의 특징은 상부가 동에서 서로 이동한 전단감각을 보이고 있어, 지역 규모의 드러스트 존재와 부합하고 있다. 광체가 북서-남동 방향의 배열 을 보이는 것은 남-북 방향을 따른 우향의 주향이동에 의한 S자 모양의 전단구조에 의한 것, 서가형전단에 따른 지괴의 회전에 기인한 것, 또는 이들이 복합적으로 중첩된 결과로 해석된다. The study area, Bophi Vum, Myanmar, is composed of the harzburgite, serpentinite and dunite, those are covered by Quaternary alluvium. The chromite ore bodies are developed within dunite and harzburgite bodies, mainly within dunite bodies. To identify the extension of the chromite ore bodies, we carried out trench surveys in the 5 different sites. The chromite ore bodies have 0.3-1.5 m wide, and several meters of extension, and deformed strongly as a sigmoid and a boudin shapes with dunite and harzburgite bodies by ductile deformation. The ductile deformation have a top-to-the-west shear sense, indicating the existence of a westward thrusting. The NW-SE trending distribution of ore bodies is related to the dextral ductile shearing and/or to the block rotation as a book-shelf structure by dextral strike-slip movement.

      • KCI우수등재

        에티오피아 북동부 하라르 일대의 지질과 지질구조

        류충렬(Chung-Ryul Ryoo),허철호(Cheol-Ho Heo),양석준(Seok-Jun Yang),타데스 알레무(Tadesse Alemu) 한국암석학회 2015 암석학회지 Vol.24 No.2

        에티오피아 북동부 하라르 일대에는 선캠브리아기 기반암인 화강편마암을 반려암이 관입하고 있으며, 이들 내에 홍색의 알칼리 화강암과 다수의 페그마타이트가 발달하고 있다. 이들 모두 구조적으로 연성과 취성의 변형을 보이고 있다. 이들 내에 발달하는 습곡과 전단구조, 그리고 드러스트와 단층 등 지질구조를 논의한다. Around Harar in the northeastern part of the Ethiopia, the Precambrian granitic gneiss and gabbro bodies are developed with several pegmatites. The rock bodies in this area have been deformed by ductile and brittle deformations developing fold and ductile shear structure, and thrust and fault.

      • KCI등재후보

        유기첨가제 및 전류밀도에 의한 Sn 솔더 범프의 미세조직 형성 연구

        김상혁,김성진,신한균,허철호,문성재,이효종,Kim, Sang-Hyeok,Kim, Seong-Jin,Shin, Han-Kyun,Heo, Cheol-Ho,Moon, Seongjae,Lee, Hyo-Jong 한국마이크로전자및패키징학회 2021 마이크로전자 및 패키징학회지 Vol.28 No.1

        미세화 되고 있는 PCB 솔더 범프 접합을 위해 종래 마이크로 볼에 의한 PCB 솔더 범프의 제조를 대신하여 주석 전기도금을 통한 패턴을 제작하기 위한 도금액을 제작하고 도금공정 조건을 찾는 실험을 진행하였다. SR 패터닝 후에 Cu 씨드층을 형성하고, 다시 DFR 패터닝을 통해 PCB 기판상에 선택성장이 가능한 패턴을 제작하였다. 도금액은 메탄술폰산을 기본액으로 하는 주석도금액을 사용하였으며, 2가의 주석이온의 산화를 방지하기 위해 hydroquinone을 첨가하였다. 표면활성제로는 Triton X-100를 사용하고, 결정립 미세화를 위해 gelatin을 첨가하여 시료를 제작하였다. 전기화학적 분극곡선을 측정함으로써, Triton X-100 및 gelatin 첨가제의 작용 특성을 비교하였으며, gelatin이 -0.7 V vs. NHE까지 수소발생을 억제하는 것에 비해 Triton X-100을 첨가하게 되면 -1 V vs. NHE까지 수소발생이 억제되는 것을 확인할 수 있었다. 결정립의 크기는 전류밀도가 증가하면서 미세화되는 일반적 경향을 나타내었으며, gelatin을 첨가하는 경우에 보다 더 미세해지는 것이 관찰되었다. For the bonding of smaller PCB solder bumps of less than 100 microns, an experiment was performed to make up a tin plating solution and find plating conditions in order to produce a bump pattern through tin electroplating, replacing the previous PCB solder bumps process by microballs. After SR patterning, a Cu seed layer was formed, and then, through DFR patterning, a pattern in which Sn can be selectively plated only within the SR pattern was formed on the PCB substrate. The tin plating solution was made based on methanesulfonic acid, and hydroquinone was used as an antioxidant to prevent oxidation of divalent tin ions. Triton X-100 was used as a surfactant, and gelatin was used as a grain refiner. By measuring the electrochemical polarization curve, the characteristics of organic additives in Triton X-100 and gelatin were compared. It was confirmed that the addition of Triton X-100 suppressed hydrogen generation up to -1 V vs. NHE, whereas gelatin inhibited hydrogen generation up to -0.7 V vs. NHE. As the current density increased, there was a general tendency that the grain size became finer, and it was observed that it became finer when gelatin was added.

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