본 논문은 픽셀과 주변의 지문패턴 간에 형성되는 가장자리 커패시턴스를 감소시킴으로써 긴 인식거리에서 지문영상의 품질을 개선하는 방법에 대하여 기술하였다. 지문센서 상부에 부착...

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서울 : 성균관대학교 일반대학원, 2017
학위논문(석사) -- 성균관대학교 일반대학원 , DMC공학과 , 2017. 8
2017
한국어
서울
A method of enhancing sensing distance of fingerprint sensor
iv, 41 p. : 삽화, 표 ; 30 cm
지도교수: 전정훈
참고문헌 : p. 39-40
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본 논문은 픽셀과 주변의 지문패턴 간에 형성되는 가장자리 커패시턴스를 감소시킴으로써 긴 인식거리에서 지문영상의 품질을 개선하는 방법에 대하여 기술하였다. 지문센서 상부에 부착되는 글래스 내에 격막을 적용하여 가장자리 커패시턴스를 감소시켰다. 지문과 격막 구조의 모델링은 3D 커패시턴스 해석 툴을 사용하였다. 실리콘타입의 정전방식 센서 위에 깊이는 50um, Pitch는 50um인 격막들이 적용된 글래스를 적층 하여 프로토타입을 제작하였다. 시뮬레이션과 프로토타입의 실험결과를 통해 본 논문에서 제안된 격막 적용 시 인식거리 300um 이상에서 지문영상의 해상도는 1.67 lp/mm 에서 2.5 lp/mm 로 개선되고 콘트라스트는 0.34에서 0.91로 개선됨을 확인하였다.
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