High performance high-k Al2O3 and HfO2 gate stack technology for GaAs MISFET|RISS 상세보기

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저자

서동찬
발행사항
Seoul : Graduate School, Yonsei University, 2010
학위논문사항

학위논문(박사) -- Graduate School, Yonsei University , Dept. of Materials Science and Engineering , 2010.8
발행연도
2010
작성언어
영어
발행국(도시)
서울
기타서명
GaAs MISFET 에서의 gate oxide 형성 연구
형태사항
ix, 134장 : 삽화 ; 26 cm
일반주기명

지도교수: Dae-Hong Ko
소장기관
- 국립중앙도서관
- 연세대학교 미래학술정보원
- 연세대학교 학술문화처 도서관
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