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    SAS 법을 이용한 ATO의 합성과 습식도포법에 의한 도전성 필름 = The Study on Synthesis of ATO by SAS Method and Conductive PET Film Prepared by a Wet Coating

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    국문 초록 (Abstract) kakao i 다국어 번역

    ITO가 투명 전도막으로 가장 폭 넓게 사용되고 있으나 가격이 비싸고 분산성이 불량하다는 단점을 가지고 있어 도전성 필름의 적용 생산에 큰 제한이 되고 있다. ITO를 대체할 수 있는 무기물로서 전기저항, 내산성, 내염기성, 기계적 성질이 우수하고 제조원가가 저렴하며 대량 생산 할 수 있는 ATO가 있으며 나노입자의 생산이 용이한 SAS법을 이용하여 합성하였다. ATO는 9:1, 8:2, 7:3, 6:4, 5:5, 4:6, 3:7, 2:8와 같이 단계별 Sn:Sb의 몰비 조건으로 합성하였다. Sn:Sb가 4:6 이하에서는 ATO의 합성이 어려웠으며 Sn:Sb가 8:2의 몰비 조건에서 ATO 합성이 가장 양호하였다. 합성된 ATO는 분산성이 양호한 조건에서 도포액으로 제조한 후 bar 코터를 이용하여 PET 필름에 박막으로 습식도포하여 도전성 필름을 제조하였다. 그리고 furnace 의 온도는 700℃에서 가장 도전성이 좋게 나왔다.
    도전성 필름 제조할 때, ITO 와 ATO 가 증가할수록 도전성은 증가하지만 4% 이상의 양이 첨가 되면 도전성이 증가하지 않는다. 물질의 양이 증가할수록 필름의 투명성이 떨어지므로 도전성과 투명성의 관계에 있어 1~2% 사이의 양이 가장 적당하다.
    ITO의 제타 포텐셜은 pH 가 8.5 와 6이하 일때 , 물질이 안정하고, ATO 의 제타 포텐셜은 pH 가 3.7 과 8 이상 이었을때, 물질이 안정하다. 두 물질을 적층 시킬을때는 본 ATO 와 ITO 필름 보다 도전성이 높게 나오며, 또한 SAS 법을 이용한 ATO 합성물질 보다 Ag-ATO 합성물질의 필름이 더 도전성이 높게 나온다.
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    ITO가 투명 전도막으로 가장 폭 넓게 사용되고 있으나 가격이 비싸고 분산성이 불량하다는 단점을 가지고 있어 도전성 필름의 적용 생산에 큰 제한이 되고 있다. ITO를 대체할 수 있는 무기물...

    ITO가 투명 전도막으로 가장 폭 넓게 사용되고 있으나 가격이 비싸고 분산성이 불량하다는 단점을 가지고 있어 도전성 필름의 적용 생산에 큰 제한이 되고 있다. ITO를 대체할 수 있는 무기물로서 전기저항, 내산성, 내염기성, 기계적 성질이 우수하고 제조원가가 저렴하며 대량 생산 할 수 있는 ATO가 있으며 나노입자의 생산이 용이한 SAS법을 이용하여 합성하였다. ATO는 9:1, 8:2, 7:3, 6:4, 5:5, 4:6, 3:7, 2:8와 같이 단계별 Sn:Sb의 몰비 조건으로 합성하였다. Sn:Sb가 4:6 이하에서는 ATO의 합성이 어려웠으며 Sn:Sb가 8:2의 몰비 조건에서 ATO 합성이 가장 양호하였다. 합성된 ATO는 분산성이 양호한 조건에서 도포액으로 제조한 후 bar 코터를 이용하여 PET 필름에 박막으로 습식도포하여 도전성 필름을 제조하였다. 그리고 furnace 의 온도는 700℃에서 가장 도전성이 좋게 나왔다.
    도전성 필름 제조할 때, ITO 와 ATO 가 증가할수록 도전성은 증가하지만 4% 이상의 양이 첨가 되면 도전성이 증가하지 않는다. 물질의 양이 증가할수록 필름의 투명성이 떨어지므로 도전성과 투명성의 관계에 있어 1~2% 사이의 양이 가장 적당하다.
    ITO의 제타 포텐셜은 pH 가 8.5 와 6이하 일때 , 물질이 안정하고, ATO 의 제타 포텐셜은 pH 가 3.7 과 8 이상 이었을때, 물질이 안정하다. 두 물질을 적층 시킬을때는 본 ATO 와 ITO 필름 보다 도전성이 높게 나오며, 또한 SAS 법을 이용한 ATO 합성물질 보다 Ag-ATO 합성물질의 필름이 더 도전성이 높게 나온다.

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    목차 (Table of Contents)

    • 제1장 서론 1
    • 제2장 이론 5
    • 2-1. 디스플레이용 투명 전극 5
    • 2-2. 기술 내용 및 동향 6
    • 2-3. 플렉시블 디스플레이용 투명 전극 박막 가공 기술 11
    • 제1장 서론 1
    • 제2장 이론 5
    • 2-1. 디스플레이용 투명 전극 5
    • 2-2. 기술 내용 및 동향 6
    • 2-3. 플렉시블 디스플레이용 투명 전극 박막 가공 기술 11
    • 2-4. 응용분야 및 시장분석 13
    • 2-5. ATO 박막의 연구 동향 15
    • 제3장 실험 17
    • 3-1. 시 약 17
    • 3-2. 실험 방법 18
    • 제4장 결과 및 고찰 28
    • 4-1. Sputterring 전력에 따른 ITO 와 ATO 박막 특성 38
    • 4-2. Sputterring 압력에 따른 ITO 박막 특성 40
    • 4-3. 박막 두께에 따른 ITO 와 ATO 박막 특성 40
    • 4-4. 기판 온도에 따른 ITO 박막 특성 40
    • 4-5. 열처리 온도에 따른 ITO 박막 특성 41
    • 4-6. pH 변화 41
    • 4-7. ITO 첨가량에 따른 변화 44
    • 4-8. Bar 의 크기와 속도 45
    • 4-9. ATO 첨가량에 따른 변화 45
    • 4-10. ATO 합성에 Ag 첨가량에 따른 젼화 51
    • 4-11. 속 도 52
    • 4-12. 건 조 53
    • 제5장 결 론 55
    • 제6장 참고 문헌 56
    • ABSTRACT 59
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