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유도 결합 플라즈마를 이용한 Fence free Ta₂O<SUB>5</SUB> 박막 식각에 관한 연구
허상욱(Heo Sang Wook),김관하(Kim Gwan-Ha) 대한전기학회 2021 대한전기학회 학술대회 논문집 Vol.2021 No.10
Ta₂O5 박막의 4.6eV 밴드갭 및 기계적, 화학적 안정성, 넓은 범위의 투과율 등의 특성으로 인하여 반도체 및 다양한 광학소자에 응용 가능성이 대두되나 Glass와 같은 전기 전도성, 열 전도성이 떨어지는 경우 미세패턴 형성을 위한 플라즈마 식각 후 Fence 현상이 발생하나 이의 제거가 쉽지 않다. 본 연구에서는 피라나, Cr Wet etch, HF 처리 등을 반복하여 패턴에 손상을 주지 않고 Fence 및 식각 마스크 등을 제거함을 확인 할 수 있었다.