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전자주입에 의해 야기되는 MOS 소자의 전류-전압 특성 분석
全賢求(Hyungoo Jeon),崔成佑(Sungwoo Choi),安昞澈(Byungchul Ahn),盧用翰(Yonghan Roh) 大韓電子工學會 2000 電子工學會論文誌-SD (Semiconductor and devices) Vol.37 No.11
금속-산화막-반도체 소자의 산화막에 존재하는 느린 준위에 의한 전류반응 특성을 양방향 전류-전압 측정기술을 적용하여 분석하였다. 게이트 바이어스에 따라 나타나는 충전 및 방전시의 순간전류를 유지시간, 지연시간, 전자주입 방향 및 전자주입량, 그리고 전자 주입 후 상온 방치시간의 함수로서 조사하였다. 느린 준위의 전하교환에 따른 전류 성분을 게이트 전압에 따라 실리콘 내 캐리어의 이동에 의해 나타나는 변위전류와 분리하여 해석하였다. 충전 및 방전시 나타나는 전하교환 전류는 산화막내 정전하 밀도뿐만 아니라 계면준위 밀도에도 크게 의존이 되며, 본 연구에서는 느린 준위의 전하교환 메카니즘을 제시하였다. A simple two-terminal cyclic current-voltage(Ⅰ-Ⅴ) technique was used to measure the current-transients in metal-oxide-semiconductor capacitors. Distinct charging/discharging currents were measured and analyzed as a function of the hold time, the delay time, the gate polarity during the FNT electron injection, the injection fluence and the annealing time after the injection had stopped The charge-exchange current was distinguished from total current-transients containing the displacement current components. Charging/discharging current caused by the charge exchange was strongly dependent not only on the density of postive charges in the SiO₂, but also on the density of interface traps generated during the FNT electron injection. Several tentative mechanisms were suggested.