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ア ァ カ サ ザ タ ダ ナ ハ バ パ マ ヤ ャ ラ ワ ヮ ン イ ィ キ ギ シ ジ チ ヂ ニ ヒ ビ ピ ミ リ ウ ゥ ク グ ス ズ ツ ヅ ッ ヌ フ ブ プ ム ユ ュ ル エ ェ ケ ゲ セ ゼ テ デ ヘ ベ ペ メ レ オ ォ コ ゴ ソ ゾ ト ド ノ ホ ボ ポ モ ヨ ョ ロ ヲ ―

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§ ※ ☆ ★ ○ ● ◎ ◇ ◆ □ ■ △ ▽ → ← ↑ ↓ ↔ 〓 ◁ ◀ ▷ ▶ ♤ ♠ ♡ ♥ ♧ ♣ ⊙ ◈ ▣ ◐ ◑ ▒ ▤ ▥ ▨ ▧ ▦ ▩ ♨ ☏ ☎ ☜ ☞ † ‡ ↕ ↗ ↙ ↖ ↘ ♭ ♩ ♪ ♬ ㉿ ㈜ № ㏇ ™ ㏂ ㏘ ℡ ＃ ＆ ＊ ＠ ª º
ⅰ ⅱ ⅲ ⅳ ⅴ ⅵ ⅶ ⅷ ⅸ ⅹ Ⅰ Ⅱ Ⅲ Ⅳ Ⅴ Ⅵ Ⅶ Ⅷ Ⅸ Ⅹ
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      저자 : 이철대 ( Chul Tae Lee ) (검색결과 1 건)
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        평판디스플레이용 유리의 박판화공정을 위한 비불산형 식각액

        이철대 ( Chul Tae Lee ) 한국공업화학회 2016 공업화학 Vol.27 No.1

        The purpose of this research was to develop a flat panel display device’s glass etchant which can replace hydrofluoric acid. The glass etchant was composed of 18~19% wt% of ammonium hydrogen fluoride, 24~25 wt% of sulfuric acid, 45~46 wt% of water, 4~5 wt% of sulfate and 7~8 wt% of fluoro-silicate. By replenishing the etchant which has the amount of 5% of initial solution’s mass, it was possible to reuse the etchant continuously. The developed etchant showed 5μm/min of etching rate at 30 ℃. The reusable etchant, with replenishing 5% of initial etchant mass showed the stable etching rate, which has the deviation of less than 0.1 μm/min etching rate. The glass surface of flat panel display device created from our etching process was in good condition with any defects such as pin hole and dimple.

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