http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.
변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.
- 中文 을 입력하시려면 zhongwen을 입력하시고 space를누르시면됩니다.
- 北京 을 입력하시려면 beijing을 입력하시고 space를 누르시면 됩니다.
RISS 인기검색어
- 검색키워드
- 저자 : 박가연 ( Ga Yun Park ) (검색결과 1 건)
- 무료
- 기관 내 무료
- 유료
-
박가연 ( Ga Yun Park ),김경민 ( Kyung Min Kim ),이호연 ( Ho Yeon Lee ),박창현 ( Chang Hyun Park ),김영민 ( Young Min Kim ),탁용석 ( Yong Sug Tak ),최진섭 ( Jin Sub Choi ) 한국공업화학회 2012 공업화학 Vol.23 No.5
본 연구에서는 균일하고 높은 비율의 에치 피트를 갖는 알루미늄 전극을 제작하기 위해 소프트 리소그래피를 이용하 여 알루미늄 표면에 보호층을 형성하였다. 알루미늄 표면 위에 잘 정돈된 보호층을 형성하기 위해 다양한 방법을 시 도하였으며, 보호층을 이용한 알루미늄 에칭과 보호층이 존재하지 않는 알루미늄 에칭을 비교 관찰하였다. 보호층을 이용하여 알루미늄 에칭을 진행하였을 때, 알루미늄 표면에 균일한 에칭 표면이 확인되었으나, 보호층이 존재하지 않았을 때는 불균일한 표면 에칭이 관찰되었다. In this study, etched Al electrodes with ordered arrays of pits and high aspect ratios were successively obtained using a patterned protect layer on the Al surface prepared with soft lithography method, Various methods were applied to fabricate a well ordered protect layer on the Al surface and the difference of etched Al surfaces with and without a protect layer was investigated by using SEM, It was found that the etched Al surfaces were affected by using either a protect layer or a non protect layer. As a result, the Al surface with the well ordered pits could be achieved by protect layer. However, the etched Al with nonuniform pits can be obtained without any protect layers.
연관 검색어 추천
이 검색어로 많이 본 자료
활용도 높은 자료
