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      KCI등재

      UV-LED를 이용한 광조형 장치 개발 = Development of Stereolithography Apparatus by using UV-LED

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      https://www.riss.kr/link?id=A99973527

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      The stereolithography(SL) process is a type of fabrication technology which relies on photopolymerization. It has a relatively simple fabrication process and a resolution of several tens of μm. Recently, SL technology has been applied to various area...

      The stereolithography(SL) process is a type of fabrication technology which relies on photopolymerization. It has a relatively simple fabrication process and a resolution of several tens of μm. Recently, SL technology has been applied to various areas, such as bioengineering and MEMS devices, due to the development of advanced materials. This technologycan be divided in to the scanning(SSL) and projection (PSL) types. In this paper, in stereolithography, parts are fabricated by curing photopolymeric resins with light. The application of stereolithography can now include fabricated parts. This process, called stereolithography, can fabricate parts by taking into account their degrees of geometry complexity. In particular, UV-LED stereolithography can perform quite rapid fabrication in which specific cross-sections are cured upon exposure to light.

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      목차 (Table of Contents)

      • ABSTRACT
      • 1. 서론
      • 2. UV-LED 를 이용한 광조형법(Stereolithography)
      • 3. 실험결과 및 고찰
      • 4. 결론
      • ABSTRACT
      • 1. 서론
      • 2. UV-LED 를 이용한 광조형법(Stereolithography)
      • 3. 실험결과 및 고찰
      • 4. 결론
      • REFERENCES
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      참고문헌 (Reference)

      1 Maruo, S, "Submicron stereolithography for the production of freely movable mechanisms by using single-photon polymerization" 100 (100): 70-76, 2002

      2 Lee, S. H., "STL file generation from measured point data by segmentation and Delaunay triangulation" 34 (34): 691-704, 2002

      3 Kim, H. C., "Reduction of post-processing for stereolithography systems by fabrication-direction optimization" 37 (37): 711-725, 2005

      4 Jacobs, P. F., "Rapid Prototyping & Manufacturing" Society of Manufacturing Engineers 26-29, 1992

      5 Sun, C., "Projection micro-stereolithography using digital micro-mirror dynamic mask" 121 (121): 113-120, 2005

      6 Lee, I. H., "Micro-stereo-lithography photopolymer solidification patterns for various laser beam exposure conditions" 22 (22): 410-416, 2003

      7 박인백, "Fabrication of a Micro-lens Array with a Non-layered Method in Projection Microstereolithography" 한국정밀공학회 11 (11): 483-490, 2010

      8 Hornbeck, L. J., "Digital Light Processing and MEMS: Timely Convergence for a Bright Future" SPIE Micromachining and Microfabrication 1995

      1 Maruo, S, "Submicron stereolithography for the production of freely movable mechanisms by using single-photon polymerization" 100 (100): 70-76, 2002

      2 Lee, S. H., "STL file generation from measured point data by segmentation and Delaunay triangulation" 34 (34): 691-704, 2002

      3 Kim, H. C., "Reduction of post-processing for stereolithography systems by fabrication-direction optimization" 37 (37): 711-725, 2005

      4 Jacobs, P. F., "Rapid Prototyping & Manufacturing" Society of Manufacturing Engineers 26-29, 1992

      5 Sun, C., "Projection micro-stereolithography using digital micro-mirror dynamic mask" 121 (121): 113-120, 2005

      6 Lee, I. H., "Micro-stereo-lithography photopolymer solidification patterns for various laser beam exposure conditions" 22 (22): 410-416, 2003

      7 박인백, "Fabrication of a Micro-lens Array with a Non-layered Method in Projection Microstereolithography" 한국정밀공학회 11 (11): 483-490, 2010

      8 Hornbeck, L. J., "Digital Light Processing and MEMS: Timely Convergence for a Bright Future" SPIE Micromachining and Microfabrication 1995

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      2017-01-01 평가 등재학술지 유지 (계속평가) KCI등재
      2013-01-01 평가 등재 1차 FAIL (등재유지) KCI등재
      2010-01-01 평가 등재학술지 선정 (등재후보2차) KCI등재
      2009-01-01 평가 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) KCI등재후보
      2008-01-01 평가 등재후보 1차 FAIL (등재후보1차) KCI등재후보
      2007-01-01 평가 등재후보학술지 유지 (등재후보1차) KCI등재후보
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      2016 0.77 0.77 0.62
      KCIF(4년) KCIF(5년) 중심성지수(3년) 즉시성지수
      0.53 0.47 0.441 0.13
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