OPC(Optical Proximity Correction)는 초고집적회로 내의 최소 선폭의 크기가 광리소그래피에 사용되는 광원의 해상도 한계에 접근하면서 새롭게 부각되고 있는 기술이다. 현재는 밀집 패턴과 고립 ...
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2000
Korean
420.000
학술저널
1-4(4쪽)
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OPC(Optical Proximity Correction)는 초고집적회로 내의 최소 선폭의 크기가 광리소그래피에 사용되는 광원의 해상도 한계에 접근하면서 새롭게 부각되고 있는 기술이다. 현재는 밀집 패턴과 고립 ...
OPC(Optical Proximity Correction)는 초고집적회로 내의 최소 선폭의 크기가 광리소그래피에 사용되는 광원의 해상도 한계에 접근하면서 새롭게 부각되고 있는 기술이다. 현재는 밀집 패턴과 고립 패턴이 광학적 간섭 현상에 의해 해상 후의 크기가 달라지는 것을 보상하기 위하여 사용되고 있으나, 회로의 최소선폭이 더욱 작아짐에 따라 레이아웃 설계가 끝난 후 설계 규칙 검사(DRC)를 한 후 레이아웃을 변형하는 기술로 발전할 것이 예상된다. 본 연구에서는 변형 조명을 사용하여 해상도를 향상시킬 경우 최대 공정 여유도를 주는 최적의 변형 조명의 조건을 찾아보고 OPC를 적용시킬 경우 최적의 변형 조명 조건이 어떻게 달라지는지 살펴보았다.
다국어 초록 (Multilingual Abstract)
OPC(Optical Poximity Correction)has been developed for the very small patterns, of which sizes are approaching the optical resolution limit. The current OPC technology can be more effective when combining with the modified illumination. We have tested...
OPC(Optical Poximity Correction)has been developed for the very small patterns, of which sizes are approaching the optical resolution limit. The current OPC technology can be more effective when combining with the modified illumination. We have tested the effect of the modified illumination and found the use of properly optimized illumination improves the process margin quite noticeable.
밀도초함수밀접결합 방법을 이용한 Si(100) 표면의 탄화과정 연구