Characterization of interfaces between HfO2 thin film and metal electrode|RISS 상세보기

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예시)

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https://www.riss.kr/link?id=T13294164

저자

Kim, Youngnam
발행사항
Seoul : Sungkyunkwan University, 2013
학위논문사항

Thesis(Ph.D.) -- Sungkyunkwan University , School of Advanced Materials Science & Engineering , 2013. 8
발행연도
2013
작성언어
영어
주제어

HfO2, Al2O3, metal electrode, high dielectric material, TiN electrode, Metal-Insulator-Metal (MIM), capacitor, DRAM, crystallization, Hf-silicate, Hf-Silicide
DDC
620.11 판사항(22)
발행국(도시)
서울
기타서명
HfO2 와 金屬電極 사이의 界面特性
형태사항
xi, 124 p. : ill., chart ; 30 cm
일반주기명

Adviser: Jaichan Lee
Includes bibliographical references
소장기관
- 국립중앙도서관
- 성균관대학교 삼성학술정보관