Rf Magnetron Sputtering 방법에 의하여 제조된 $(BaSr)TiO_3$ 박막의 구조적, 광학적 특성 고찰 = The Characterization of Structural and Optical Properties for rf Magnetron Sputtered $(BaSr)TiO_3$ Thin Film

다국어 초록 (Multilingual Abstract)

ITO coated glass, bare glass, 그리고 (100)Si 기판 위에 증착된 $(BaSr)TiO_3$ 박막의 구조는 기판의 종류에 관계없이 변하지 않았으나 결정성은 다결정 ITO층과 (100)Si 기판에 있어서 증대되었다. ITO coated glass 기판 위에 증착된 $(BaSr)TiO_3$ 박막의 조성은 거의 화학양론적으로 일치하였으며 ((Ba+Sr)/Ti=1.08~1.09) 증착 중 상당히 치밀하고 균질하였다. 그러나 증착온도가 증가함에 따라 성장한 박막과 ITO층 사이에, 그리고 ITO층과 base glass 사이에 확산이 보다 심화되었다. ITO coated glass 기판 위에 증착된 $(BaSr)TiO_3$ 박막은 상당히 투명하였으며(투과율 약 80%) 굴절률($n_f$)은 기판온도의 증가에 따라 2.138~2.286이었다.

다국어 초록 (Multilingual Abstract)

The structure of $(BaSr)TiO_3$ thin film deposited on ITO coated glass, bare glass and (100) Si substrates was not changed, but the crystallinity was improved by the polycrystalline ITO layer and (100) Si substrate. The composition of $(BaSr)TiO_3$ thin film deposited on ITO coated glass was nearly stoichiometric ((Ba+Sr)/Ti=1.08~1.09) and very uniform through all deposition process. But as the deposition temperature increases, the interdiffusion between grown thin film and ITO layer and between ITO layer and base glass is severer. $(BaSr)TiO_3$ thin film deposited on ITO coated glass substrate was highly transparent. The refractive index($n_f$) of $(BaSr)TiO_3$ thin film deposited on ITO coated glass was 2.138~2.286 as a function of substrate temperature.