본 논문에서는, drain 전압과 substrate bias에 종속적인 관계를 갖는 short-channel enhancement-mode IGFET의 threshold전압에 대한 보다 개선된 모델을 제시한다. 특히, 최근에 발표된 몇몇 모델들에 비해. sho...

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박광민 ; 김홍배 ; 곽계달 ; Park, Gwang-Min ; Kim, Hong-Bae ; Gwak, Gye-Dal
1985
Korean
학술저널
1-7(7쪽)
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다운로드본 논문에서는, drain 전압과 substrate bias에 종속적인 관계를 갖는 short-channel enhancement-mode IGFET의 threshold전압에 대한 보다 개선된 모델을 제시한다. 특히, 최근에 발표된 몇몇 모델들에 비해. sho...
본 논문에서는, drain 전압과 substrate bias에 종속적인 관계를 갖는 short-channel enhancement-mode IGFET의 threshold전압에 대한 보다 개선된 모델을 제시한다. 특히, 최근에 발표된 몇몇 모델들에 비해. short-channel effect에 의한 correction factor를 정확히 해석함으로써 오차를 충분히 줄일 수 있었으며, 본 모델을 이용하여 계산한 이론값은 약 1μm 정도의 채널 길이를 갖는 device에 대해서도 실험값과 잘 일치한다.
다국어 초록 (Multilingual Abstract)
In this paper, a more improved threshold voltage model dependent on drain voltage and substrate bias for short - channel enhancement - mode IGFET is presented. Especially, compared with the several recently published models, the error is sufficient...
In this paper, a more improved threshold voltage model dependent on drain voltage and substrate bias for short - channel enhancement - mode IGFET is presented. Especially, compared with the several recently published models, the error is sufficiently reduced with the precise analysis on the correction factor for short-channel effect and the calculated values using this model are also agreed well with the experimental data about 1$\mu$m - channel length device.
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