Principles of chemical vapor deposition|RISS 상세보기

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예시)

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https://www.riss.kr/link?id=M9012168

저자

Dobkin, Daniel Mark ; Zuraw, Michael K
발행사항
Dordrecht ; Boston : Kluwer Academic Publishers, 2003
발행연도
2003
작성언어
영어
주제어

Vapor-plating ; Refractory coating
DDC
671.7/35 판사항(20)
ISBN
1402012489 (alk. paper) : EMU97.00
자료형태
일반단행본
서명/저자사항
Principles of chemical vapor deposition / by Daniel M. Dobkin and Michael K. Zuraw.
형태사항
xi, 273 p. : ill. ; 25 cm.
일반주기명
Includes bibliographical references and index.
소장기관
- 경기대학교 중앙도서관(수원캠퍼스)
- 경상국립대학교 도서관
- 경희대학교 중앙도서관
- 고려대학교 과학도서관
- 고려대학교 세종학술정보원
- 국립부경대학교 도서관
- 국립중앙도서관
- 국민대학교 성곡도서관
- 단국대학교 퇴계기념도서관(중앙도서관)
- 동의대학교 중앙도서관
- 목원대학교 도서관
- 서울과학기술대학교 도서관
- 서울대학교 중앙도서관
- 연세대학교 학술문화처 도서관
- 전남대학교 중앙도서관
- 한국과학기술원(KAIST) 학술문화관
- 한국항공대학교 도서관
- 한양대학교 안산캠퍼스
- 호서대학교 중앙도서관
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