물리적 분산기법으로 초음파와 균질기를 동시에 적용한 분산기법을 이용하여 에폭시 기반 층상나노실리케이트를 충진한 에폭시나노콤포지트 제조하였다. 유리천이온도 특성으로 무충진 ...
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2008
Korean
560
학술저널
155-156(2쪽)
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물리적 분산기법으로 초음파와 균질기를 동시에 적용한 분산기법을 이용하여 에폭시 기반 층상나노실리케이트를 충진한 에폭시나노콤포지트 제조하였다. 유리천이온도 특성으로 무충진 ...
물리적 분산기법으로 초음파와 균질기를 동시에 적용한 분산기법을 이용하여 에폭시 기반 층상나노실리케이트를 충진한 에폭시나노콤포지트 제조하였다. 유리천이온도 특성으로 무충진 에폭시수지와 층상실리케이트가 충진된 나노콤포지트의 비교에서 9.2℃가 상승되는 결과를 얻었다. 고온부인 130℃ 환경온도에서 장시간 트리잉 절연파괴측정에서 무충진에폭시 수지에 비하여 나노콤포지트가 절연파괴시간이 13.39배 늦은 시간에 파괴되었고, 트리진전속도의 경우 나노콤포지트가 13.9배 늦은 지연속도를 나타내었다.
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