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고속 열 확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti-실리시이드화된 $n^+$ -p 다이오드 특성 분석
최동영, 이성욱,주정규,강명구,윤석범,오환술 대한전자공학회 1994 p.80-90
$Si^+$ 이온주입된 Si 기판의 결함형성 및 회복에 관한 연구
김광일, 이상환,정욱진,정호배,권영규,김범만,Hiroshi Kuwano 대한전자공학회 1994 p.91-99