FED 패널은 10^-7torr 이하의 충분한 내부 진공도를 갖고 장시간 사용에도 진공도의 저하가 없어야 한다. 그러나 패널 내부가 불과 수백 ㎛에 불과해서 기체전도도가 낮고 진공도를 직접 측정할...
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국문 초록 (Abstract)
FED 패널은 10^-7torr 이하의 충분한 내부 진공도를 갖고 장시간 사용에도 진공도의 저하가 없어야 한다. 그러나 패널 내부가 불과 수백 ㎛에 불과해서 기체전도도가 낮고 진공도를 직접 측정할...
FED 패널은 10^-7torr 이하의 충분한 내부 진공도를 갖고 장시간 사용에도 진공도의 저하가 없어야 한다. 그러나 패널 내부가 불과 수백 ㎛에 불과해서 기체전도도가 낮고 진공도를 직접 측정할 수 없어 고진공 배기와 유지가 매우 어렵다. 그래서 UHV system을 사용하여 패널 내부를 진공배기한 후 간접적으로 압력 분포를 측정하고 패널과 chamber 연결관을 밀봉하고 게터를 사용한 후 진공도의 변화를 관찰 함으로써 진공 배기와 유지 방법을 제시하였다.
본실험에서는 배기구를 두 개로 하여 배기 시간을 단축 시키고 한쪽 배기구를 밀봉한 후에도 계속해서 변화하는 패널 내부의 압력을 다른쪽 배기구를 이용하여 측정 하였다. main chamber의 압력이 1×10^-8torr일 때 제1배기부의 압력은 5×10^-6torr, 패널 중심부의 약 8×10^-5torr로 간접 측정 되었다. 제1배기관을 가열 밀봉하고 게터를 활성화 시킨 후 제2배기부에서 측정한 진공도는 8×10^-7torr로 측정 되었다. 이 측정값으로 계산 하면 패널 중심부의 진공도는 약 9×10^-5의 값을 얻었다.
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