RISS 학술연구정보서비스

검색
다국어 입력

http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.

변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.

예시)
  • 中文 을 입력하시려면 zhongwen을 입력하시고 space를누르시면됩니다.
  • 北京 을 입력하시려면 beijing을 입력하시고 space를 누르시면 됩니다.
닫기
    인기검색어 순위 펼치기

    RISS 인기검색어

      KCI등재 SCOPUS

      급속 열처리를 이용한 Ag와 MgZnO 박막의 쇼트키 다이오드 특성 연구 = A Study on the Characteristics of a MgZnO Schottky Diode by Rapid Thermal Annealing of Ag Metal

      한글로보기

      https://www.riss.kr/link?id=A104118352

      • 0

        상세조회
      • 0

        다운로드
      서지정보 열기
      • 내보내기
      • 내책장담기
      • 공유하기
      • 오류접수

      부가정보

      다국어 초록 (Multilingual Abstract) kakao i 다국어 번역

      If stable Schottky diode characteristics are to be obtained, a stable Schottky barrier must be formed. In this work, ZnO and Mg0.3Zn0.7O films were deposited by RF sputtering with ZnO and Mg0.3Zn0.7O targets, respectively. For the formation of the Schottky contact, Ag metal was used and was annealed by using a rapid thermal process in air at 300 ℃, sequentially. The Schottky diode characteristics of ZnO and Mg0.3Zn0.7O were compared to understand of the effect of Mg and rapid thermal annealing. While the ZnO film showed no Schottky diode property, the sample of Mg0.3Zn0.7O that had undergone rapid thermal annealing showed an Ion/Ioff ratio of > 104, a threshold voltage of 1.10 V and a Schottky barrier of 1.10 eV.
      번역하기

      If stable Schottky diode characteristics are to be obtained, a stable Schottky barrier must be formed. In this work, ZnO and Mg0.3Zn0.7O films were deposited by RF sputtering with ZnO and Mg0.3Zn0.7O targets, respectively. For the formation of the Sch...

      If stable Schottky diode characteristics are to be obtained, a stable Schottky barrier must be formed. In this work, ZnO and Mg0.3Zn0.7O films were deposited by RF sputtering with ZnO and Mg0.3Zn0.7O targets, respectively. For the formation of the Schottky contact, Ag metal was used and was annealed by using a rapid thermal process in air at 300 ℃, sequentially. The Schottky diode characteristics of ZnO and Mg0.3Zn0.7O were compared to understand of the effect of Mg and rapid thermal annealing. While the ZnO film showed no Schottky diode property, the sample of Mg0.3Zn0.7O that had undergone rapid thermal annealing showed an Ion/Ioff ratio of > 104, a threshold voltage of 1.10 V and a Schottky barrier of 1.10 eV.

      더보기

      국문 초록 (Abstract) kakao i 다국어 번역

      안정적인 쇼트키 접합 특성을 얻기 위해서는 쇼트키 장벽의 형성이 필수적이다. 본 연구에서는 Mg0.3Zn0.7O 타겟과 ZnO 타겟을 이용하여 RF 스퍼터링으로 ZnO와 Mg0.3Zn0.7O 박막을 형성하였다. 쇼트키 접합을 형성하기 위해 Ag 금속을 사용하였으며, 대기 분위기에서 300 ℃에서 급속 열처리를 한 후, Mg의 영향과 급속 열처리에 대한 영향을 알아보기 위하여 ZnO 박막과 Mg0.3Zn0.7O 박막의 쇼트키 다이오드 특성을 비교하였다. ZnO 박막의 경우, 열처리 전과 후, 모두 쇼트키 다이오드 특성이 나타나지 않았으나, MgZnO 박막의 경우, 열처리된 시편에서 약 104 이상의 점멸비, 1.10 V의 문턱전압, 그리고 1.10 eV의 장벽 높이를 보였다.
      번역하기

      안정적인 쇼트키 접합 특성을 얻기 위해서는 쇼트키 장벽의 형성이 필수적이다. 본 연구에서는 Mg0.3Zn0.7O 타겟과 ZnO 타겟을 이용하여 RF 스퍼터링으로 ZnO와 Mg0.3Zn0.7O 박막을 형성하였다. 쇼트...

      안정적인 쇼트키 접합 특성을 얻기 위해서는 쇼트키 장벽의 형성이 필수적이다. 본 연구에서는 Mg0.3Zn0.7O 타겟과 ZnO 타겟을 이용하여 RF 스퍼터링으로 ZnO와 Mg0.3Zn0.7O 박막을 형성하였다. 쇼트키 접합을 형성하기 위해 Ag 금속을 사용하였으며, 대기 분위기에서 300 ℃에서 급속 열처리를 한 후, Mg의 영향과 급속 열처리에 대한 영향을 알아보기 위하여 ZnO 박막과 Mg0.3Zn0.7O 박막의 쇼트키 다이오드 특성을 비교하였다. ZnO 박막의 경우, 열처리 전과 후, 모두 쇼트키 다이오드 특성이 나타나지 않았으나, MgZnO 박막의 경우, 열처리된 시편에서 약 104 이상의 점멸비, 1.10 V의 문턱전압, 그리고 1.10 eV의 장벽 높이를 보였다.

      더보기

      참고문헌 (Reference)

      1 W. W. Wensa, 70 : 7119-, 1991

      2 C. A. Mead, 18 : 218-, 1965

      3 D. C. Look, 80 : 383-, 2001

      4 H. S. Kang, 95 : 1246-, 2004

      5 H. Tanaka, 86 : 192911-, 2005

      6 T. Takagi, 42 : L401-, 2003

      7 Y. W. Heo, 84 : 3474-, 2004

      8 D. C. Reynolda, 99 : 873-, 1996

      9 J. H. Lee, 51 : 09MF07-1-, 2012

      10 K. Ito, 22 : L245-, 1983

      1 W. W. Wensa, 70 : 7119-, 1991

      2 C. A. Mead, 18 : 218-, 1965

      3 D. C. Look, 80 : 383-, 2001

      4 H. S. Kang, 95 : 1246-, 2004

      5 H. Tanaka, 86 : 192911-, 2005

      6 T. Takagi, 42 : L401-, 2003

      7 Y. W. Heo, 84 : 3474-, 2004

      8 D. C. Reynolda, 99 : 873-, 1996

      9 J. H. Lee, 51 : 09MF07-1-, 2012

      10 K. Ito, 22 : L245-, 1983

      11 T. Minami, 193/194 : 721-, 1990

      12 M. Shimzu, 71 : 209-, 1985

      13 R. P´eereza, 14 : 1146-, 2005

      14 F. Roccaforte, 96 : 4313-, 2004

      15 K. B. Sundaram, 15 : 428-, 1997

      16 Y. Chen, 76 : 559-, 2000

      17 A. Ohotomo, 72 : 2466-, 1998

      18 Y. W. Heo, 85 : 15-, 2004

      19 P. Singer, "Rapid Thermal Processing: A Progress Report" Semiconductor International 64-69, 1993

      20 J. H. Kim, "Effect of Rapid Thermal Annealing on a Ti/Au Ohmic Contact to n-ZnO" 한국물리학회 53 (53): 335-338, 2008

      더보기

      분석정보

      View

      상세정보조회

      0

      Usage

      원문다운로드

      0

      대출신청

      0

      복사신청

      0

      EDDS신청

      0

      동일 주제 내 활용도 TOP

      더보기

      주제

      연도별 연구동향

      연도별 활용동향

      연관논문

      연구자 네트워크맵

      공동연구자 (7)

      유사연구자 (20) 활용도상위20명

      인용정보 인용지수 설명보기

      학술지 이력

      학술지 이력
      연월일 이력구분 이력상세 등재구분
      2023 평가예정 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가)
      2020-01-01 평가 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) KCI등재
      2016-09-05 학술지명변경 외국어명 : Sae Mulli(New Physics) -> New Physics: Sae Mulli KCI등재
      2015-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2011-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2009-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2007-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2004-01-01 평가 등재학술지 선정 (등재후보2차) KCI등재
      2003-01-01 평가 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) KCI등재후보
      2002-01-01 평가 등재후보학술지 유지 (등재후보1차) KCI등재후보
      1999-07-01 평가 등재후보학술지 선정 (신규평가) KCI등재후보
      더보기

      학술지 인용정보

      학술지 인용정보
      기준연도 WOS-KCI 통합IF(2년) KCIF(2년) KCIF(3년)
      2016 0.18 0.18 0.17
      KCIF(4년) KCIF(5년) 중심성지수(3년) 즉시성지수
      0.15 0.14 0.3 0.1
      더보기

      이 자료와 함께 이용한 RISS 자료

      나만을 위한 추천자료

      해외이동버튼