1 W. W. Wensa, 70 : 7119-, 1991
2 C. A. Mead, 18 : 218-, 1965
3 D. C. Look, 80 : 383-, 2001
4 H. S. Kang, 95 : 1246-, 2004
5 H. Tanaka, 86 : 192911-, 2005
6 T. Takagi, 42 : L401-, 2003
7 Y. W. Heo, 84 : 3474-, 2004
8 D. C. Reynolda, 99 : 873-, 1996
9 J. H. Lee, 51 : 09MF07-1-, 2012
10 K. Ito, 22 : L245-, 1983
1 W. W. Wensa, 70 : 7119-, 1991
2 C. A. Mead, 18 : 218-, 1965
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11 T. Minami, 193/194 : 721-, 1990
12 M. Shimzu, 71 : 209-, 1985
13 R. P´eereza, 14 : 1146-, 2005
14 F. Roccaforte, 96 : 4313-, 2004
15 K. B. Sundaram, 15 : 428-, 1997
16 Y. Chen, 76 : 559-, 2000
17 A. Ohotomo, 72 : 2466-, 1998
18 Y. W. Heo, 85 : 15-, 2004
19 P. Singer, "Rapid Thermal Processing: A Progress Report" Semiconductor International 64-69, 1993
20 J. H. Kim, "Effect of Rapid Thermal Annealing on a Ti/Au Ohmic Contact to n-ZnO" 한국물리학회 53 (53): 335-338, 2008