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이 학술지의 논문 검색
On the frequency characteristic of inductor in the filter of Hall thrusters
Liqiu, W.; Zhongxi, N.; Peng, E.; Daren, Y. American Vacuum Society 2010 p.L9
Interfacial organic layers: Tailored surface chemistry for nucleation and growth
Hughes, K.J.; Engstrom, J.R. American Vacuum Society 2010 p.1033-1059
Comparison of the sputter rates of oxide films relative to the sputter rate of SiO~2
Baer, D.R.; Engelhard, M.H.; Lea, A.S.; Nachimuthu, P.; Droubay, T.C.; Kim, J.; Lee, B.; Mathews, C.; Opila, R.L.; Saraf, L.V. American Vacuum Society 2010 p.1060-1072
Control of surface roughness during high-speed chemical dry thinning of silicon wafer
Heo, W.; Ahn, J.H.; Lee, N.-E. American Vacuum Society 2010 p.1073-1077
Jen, Y.-J.; Lakhtakia, A.; Yu, C.-W.; Wang, Y.-H. American Vacuum Society 2010 p.1078-1083
Pan, T.-M.; Wu, X.-C.; Yen, L.-C. American Vacuum Society 2010 p.1084-1088
Lee, C.-T.; Liu, B.-H.; Chang, C.-M.; Lin, Y.-W. American Vacuum Society 2010 p.1089-1091
Luna, H.; Franceschini, D.F.; Prioli, R.; Guimaraes, R.B.; Sanchez, C.M.; Canal, G.P.; Barbosa, M.D.L.; Galvao, R.M.O. American Vacuum Society 2010 p.1092-1098
Vacuum-calibration apparatus with pressure down to 10^-^1^0 Pa
Li, D.; Guo, M.; Cheng, Y.; Feng, Y.; Zhang, D. American Vacuum Society 2010 p.1099-1104
Despiau-Pujo, E.; Chabert, P. American Vacuum Society 2010 p.1105-1110
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