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Amorphous hydrogenated silicon films for solar cell application obtained with 55 kHz
Budaguan, B.G Princeton Microfilm Corp 1998 p.p2508
Barrier properties of very thin Ta and TaN layers against copper diffusion
Wang, M.T Princeton Microfilm Corp 1998 p.p2538
Changes in the environment of hydrogen in porous silicon with thermal annealing
Ogata, Yukio H Princeton Microfilm Corp 1998 p.p2439
Characterization of AA2024-T3 by scanning Kelvin probe force microscopy
Schmutz, P Princeton Microfilm Corp 1998 p.p2285
Characterization of high-surface-area electrocatalysts using a rotating disk electrode configuration
Schmidt, T.J Princeton Microfilm Corp 1998 p.p2354
Chemical reactions in plasma-assisted chemical vapor deposition of titanium
Ohshita, Yoshio Princeton Microfilm Corp 1998 p.p2558
Copper dry etching with Cl2/Ar plasma chemistry
Lee, J.W Princeton Microfilm Corp 1998 p.p2585
The corrosion of Mo-Al alloys in a H2/H2S/H2O gas mixture at 800-1000...C
Kai, Wu Princeton Microfilm Corp 1998 p.p2265
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