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이 학술지의 논문 검색
Accuracy of the Equivalent Circuit Model Using a Fixed Beam Impedance for Klystron Gain Cavities
Carlsten, Bruce E Institute of Electrical and Electronics Engineers 1998 p.p1745
The Application of Time Delay Method for Analysis of Processes Which Initiate Electrical
Pejovic, Momcilo M Institute of Electrical and Electronics Engineers 1998 p.p1733
The Atmospheric-Pressure Plasma Jet: A Review and Comparison to Other Plasma Sources
Schutze, Andreas Institute of Electrical and Electronics Engineers 1998 p.p1685
Cathodic-Arc Plasma Density, Radial Profile, and Total Plasma Inventory as Measured by Microwave
Wood, Blake P Institute of Electrical and Electronics Engineers 1998 p.p1718
Diagnostics of an Inductively Coupled Plasma in Oxygen
Tadokoro, Masahiro Institute of Electrical and Electronics Engineers 1998 p.p1724
Effect of Air and Oxygen Content on the Dielectric Barrier Discharge Decomposition of Chlorobenzene
Snyder, Hans R Institute of Electrical and Electronics Engineers 1998 p.p1695
The Effect of Subsurface Doping on Gate Oxide Charging Damage
Linder, Barry P Institute of Electrical and Electronics Engineers 1998 p.p1628
Effects of Discharge Frequency on Plasma Characteristics and Etching Characteristics in
Samukawa, Seiji Institute of Electrical and Electronics Engineers 1998 p.p1621
Effects of Plasma Parameters on Viscosity
Dahi, Hossein Institute of Electrical and Electronics Engineers 1998 p.p1738
Inductive Plasma Sources for Plasma Implantation and Deposition
Tuszewski, Michel Institute of Electrical and Electronics Engineers 1998 p.p1653
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