Experimental work shows how filler-induced pattern damage occurs in semiconductor devices under different thermal-cycling conditions (-55 to 170 °C) and provides theoretical analysis.

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2026
Korean
KCI등재
학술저널
196-203(8쪽)
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Experimental work shows how filler-induced pattern damage occurs in semiconductor devices under different thermal-cycling conditions (-55 to 170 °C) and provides theoretical analysis.
Experimental work shows how filler-induced pattern damage occurs in semiconductor devices under different thermal-cycling conditions (-55 to 170 °C) and provides theoretical analysis.
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