RISS 학술연구정보서비스

검색
다국어 입력

http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.

변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.

예시)
  • 中文 을 입력하시려면 zhongwen을 입력하시고 space를누르시면됩니다.
  • 北京 을 입력하시려면 beijing을 입력하시고 space를 누르시면 됩니다.
닫기
    인기검색어 순위 펼치기

    RISS 인기검색어

      KCI등재

      韩、中、日三国的技术创新研究 ― 基于国际专利数据的比较 = The Study on Technological Innovation in Korea, China and Japan : Based on Comparison of International Patent Data

      한글로보기

      https://www.riss.kr/link?id=A106385030

      • 0

        상세조회
      • 0

        다운로드
      서지정보 열기
      • 내보내기
      • 내책장담기
      • 공유하기
      • 오류접수

      부가정보

      다국어 초록 (Multilingual Abstract) kakao i 다국어 번역

      本文主要依据世界知识产权组织提供的国际专利统计数据库(WIPO IP Statistic Data Center),对韩、中、日三国2013-2017年期间在美国授权专利的状况进行分析。为了分析韩、中、日三国国际专利的动态变化,借鉴专利活动指数(PAI)对韩、中、日三国在美授权专利排名前5位技术领域进行技术集中度分析。主要研究结论有:第一,中国在国际专利申请及授权方面非常积极,国际专利申请和授权专利呈现出良好的发展势头。第二,中国和韩国授权国际专利的技术领域主要集中在几个领域,如计算机技术(Computer technology),半导体(Semiconductors),数字通信(Digital communication),声响技术(Audio-visual technology),电气机械设备及电能(Electrical machinery,apparatus,energy)等五大领域。第三,通过三国的PAI指数分析,在电信技术领域,韩国和中国的技术创新超越日本,而且中国在半导体领域的发展势头最强劲,但在电气机械设备及电能领域,日本的技术创新成果呈现突出的趋势。
      번역하기

      本文主要依据世界知识产权组织提供的国际专利统计数据库(WIPO IP Statistic Data Center),对韩、中、日三国2013-2017年期间在美国授权专利的状况进行分析。为了分析韩、中、日三国国际专利的动...

      本文主要依据世界知识产权组织提供的国际专利统计数据库(WIPO IP Statistic Data Center),对韩、中、日三国2013-2017年期间在美国授权专利的状况进行分析。为了分析韩、中、日三国国际专利的动态变化,借鉴专利活动指数(PAI)对韩、中、日三国在美授权专利排名前5位技术领域进行技术集中度分析。主要研究结论有:第一,中国在国际专利申请及授权方面非常积极,国际专利申请和授权专利呈现出良好的发展势头。第二,中国和韩国授权国际专利的技术领域主要集中在几个领域,如计算机技术(Computer technology),半导体(Semiconductors),数字通信(Digital communication),声响技术(Audio-visual technology),电气机械设备及电能(Electrical machinery,apparatus,energy)等五大领域。第三,通过三国的PAI指数分析,在电信技术领域,韩国和中国的技术创新超越日本,而且中国在半导体领域的发展势头最强劲,但在电气机械设备及电能领域,日本的技术创新成果呈现突出的趋势。

      더보기

      다국어 초록 (Multilingual Abstract) kakao i 다국어 번역

      Using the data of patents granted by USPTO during 2013~2017 from WIPO IP Statistic Data Center, this paper examines the general trend and the main technical fields of international patents granted to Korea, China and Japan. The Patent Activity Index(PAI) was used to analyze the dynamic changes of international patents in the top 5 technical fields.
      The results show as follows. First, the number of international patent applications and registration by China has been increasing rapidly in recent years. Second, the technical fields of international patents granted by China and South Korea are mainly concentrated in several fields, such as computer technology, semiconductors, digital communication, audio-visual technology and electrical machinery, apparatus, energy. Third, through the PAI index analysis, the technology innovation and concentration of South Korea and China surpassed Japan in telecommunications technology field, and China’s development in the semiconductor field is the strongest. The technological innovation performance of Japan was analyzed as to be relatively higher than that of China and South Korea in the field of electrical machinery, apparatus, energy.
      번역하기

      Using the data of patents granted by USPTO during 2013~2017 from WIPO IP Statistic Data Center, this paper examines the general trend and the main technical fields of international patents granted to Korea, China and Japan. The Patent Activity Index(P...

      Using the data of patents granted by USPTO during 2013~2017 from WIPO IP Statistic Data Center, this paper examines the general trend and the main technical fields of international patents granted to Korea, China and Japan. The Patent Activity Index(PAI) was used to analyze the dynamic changes of international patents in the top 5 technical fields.
      The results show as follows. First, the number of international patent applications and registration by China has been increasing rapidly in recent years. Second, the technical fields of international patents granted by China and South Korea are mainly concentrated in several fields, such as computer technology, semiconductors, digital communication, audio-visual technology and electrical machinery, apparatus, energy. Third, through the PAI index analysis, the technology innovation and concentration of South Korea and China surpassed Japan in telecommunications technology field, and China’s development in the semiconductor field is the strongest. The technological innovation performance of Japan was analyzed as to be relatively higher than that of China and South Korea in the field of electrical machinery, apparatus, energy.

      더보기

      참고문헌 (Reference)

      1 최영락, "한국의 과학기술정책: 회고와 전망" 1 (1): 2018

      2 김태기, "한국 제조업에서 기업의 특허가 생산성 증가에 미친 영향" 한국경제학회 53 (53): 183-209, 2005

      3 김대기, "특허정보를 활용한 에너지 하베스팅 기술의 기술경쟁력 분석 - 한국, 미국, 일본, 유럽, 중국을 중심으로 -" 한국기술혁신학회 17 (17): 25-44, 2014

      4 한국지식재산전략원 성과관리팀, "특허성과 지표 활용 가이드라인"

      5 엄익천, "미국 등록특허 분석을 통한 한국의 기술경쟁력 개선방안" 한국과학기술기획평가원 2016

      6 이규진, "무형자산이 기업의 시장가치에 미치는 영향에 관한 연구" 한국국제회계학회 (62) : 47-72, 2015

      7 丁若沙, "美、德、日及金砖国家科技政策制定,发展与导向之比较研究" 32 (32): 2018

      8 王天华, "日本的科技政策与科技团体概观" 31 (31): 2018

      9 黄辰, "我国R&D经费的内部结构及国际比较" (5) : 2018

      10 李文兰, "基于美国专利探析中国国际专利发展态势" 4 (4): 2018

      1 최영락, "한국의 과학기술정책: 회고와 전망" 1 (1): 2018

      2 김태기, "한국 제조업에서 기업의 특허가 생산성 증가에 미친 영향" 한국경제학회 53 (53): 183-209, 2005

      3 김대기, "특허정보를 활용한 에너지 하베스팅 기술의 기술경쟁력 분석 - 한국, 미국, 일본, 유럽, 중국을 중심으로 -" 한국기술혁신학회 17 (17): 25-44, 2014

      4 한국지식재산전략원 성과관리팀, "특허성과 지표 활용 가이드라인"

      5 엄익천, "미국 등록특허 분석을 통한 한국의 기술경쟁력 개선방안" 한국과학기술기획평가원 2016

      6 이규진, "무형자산이 기업의 시장가치에 미치는 영향에 관한 연구" 한국국제회계학회 (62) : 47-72, 2015

      7 丁若沙, "美、德、日及金砖国家科技政策制定,发展与导向之比较研究" 32 (32): 2018

      8 王天华, "日本的科技政策与科技团体概观" 31 (31): 2018

      9 黄辰, "我国R&D经费的内部结构及国际比较" (5) : 2018

      10 李文兰, "基于美国专利探析中国国际专利发展态势" 4 (4): 2018

      11 刘云, "基于专利计量的集成电路制造领域国际技术合作特征研究" 39 (39): 2018

      12 王文平, "基于专利计量的金砖五国国际技术合作特征研究" 33 (33): 2014

      13 吴方圆, "基于专利分析的制糖业检测系统竞争态势" (6) : 2018

      14 李江雁, "企业创新能力对企业价值的影响:基于中国移动互联网上市公司的实证研究" 37 (37): 2016

      15 孙莹, "中国对美高技术产品出口研究:基于PCT申请数据的分析" 31 (31): 2012

      16 赵彦云, "中国专利对经济增长方式影响的实证研究:1988-2008年" (4) : 2011

      17 廖伟, "中国与OECD国家R&D投入比较研究" (8) : 2008

      18 葛慧丽, "专利视阈下的中国国际技术合作研究" 32 (32): 2016

      19 "WIPO"

      20 Albert,M.B, "The New Innovations: Global Patenting Trends In Five Sectors" U.S. Department of Commerce,Office of Technology Policy 1998

      21 Guellec D, "The Internationalization of Technology analyzed with Patent data" 30 (30): 2001

      22 김봉진, "Patent Scoreboard 2010 미국특허로 바라본 한국의 기술경쟁력"

      23 Dicaprio,Leonardo, "Open Innovation: The New Imperative for Creating Technology" 12 (12): 2014

      24 "OECD数据库Gross domestic spending on R&D"

      더보기

      동일학술지(권/호) 다른 논문

      동일학술지 더보기

      더보기

      분석정보

      View

      상세정보조회

      0

      Usage

      원문다운로드

      0

      대출신청

      0

      복사신청

      0

      EDDS신청

      0

      동일 주제 내 활용도 TOP

      더보기

      주제

      연도별 연구동향

      연도별 활용동향

      연관논문

      연구자 네트워크맵

      공동연구자 (7)

      유사연구자 (20) 활용도상위20명

      인용정보 인용지수 설명보기

      학술지 이력

      학술지 이력
      연월일 이력구분 이력상세 등재구분
      2026 평가예정 재인증평가 신청대상 (재인증)
      2020-01-01 평가 등재학술지 유지 (재인증) KCI등재
      2017-01-01 평가 등재학술지 유지 (계속평가) KCI등재
      2014-01-01 평가 등재학술지 선정 (계속평가) KCI등재
      2013-01-01 평가 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) KCI등재후보
      2012-01-01 평가 등재후보학술지 유지 (기타) KCI등재후보
      2011-01-01 평가 등재후보학술지 유지 (등재후보2차) KCI등재후보
      2010-01-01 평가 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) KCI등재후보
      2009-01-01 평가 등재후보학술지 유지 (등재후보2차) KCI등재후보
      2008-01-01 평가 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) KCI등재후보
      2006-01-01 평가 등재후보학술지 선정 (신규평가) KCI등재후보
      더보기

      학술지 인용정보

      학술지 인용정보
      기준연도 WOS-KCI 통합IF(2년) KCIF(2년) KCIF(3년)
      2016 0.28 0.28 0.3
      KCIF(4년) KCIF(5년) 중심성지수(3년) 즉시성지수
      0.29 0.27 0.439 0.16
      더보기

      이 자료와 함께 이용한 RISS 자료

      나만을 위한 추천자료

      해외이동버튼