1 R.B. Iverson, 62 : 1675-, 1987
2 J.Y. Kwon, 2007
3 T. Noguchi, 134 : 1771-, 1987
4 T. Kaitoh, 481-, 2007
5 T. Noguchi, 47 : 1858-, 2008
6 D. Debarre, E85-C : 1098-, 2002
7 K.B. Park, 315-, 2004
8 R.S. Sposil, 69 : 2864-, 1996
9 T. Noguchi, 43 : 1454-, 1996
10 T. Noguchi, 620 : 1991
1 R.B. Iverson, 62 : 1675-, 1987
2 J.Y. Kwon, 2007
3 T. Noguchi, 134 : 1771-, 1987
4 T. Kaitoh, 481-, 2007
5 T. Noguchi, 47 : 1858-, 2008
6 D. Debarre, E85-C : 1098-, 2002
7 K.B. Park, 315-, 2004
8 R.S. Sposil, 69 : 2864-, 1996
9 T. Noguchi, 43 : 1454-, 1996
10 T. Noguchi, 620 : 1991
11 K. Tatsuki, 109-, 2008
12 D.P. Gosain, 39 : L179-, 2000
13 T. Noguchi, 45 : 432-, 2006
14 T. Noguchi, 252-, 2009
15 T. Noguchi, 203-, 2009
16 T. Noguchi, 25 : L121-, 1986
17 T. Noguchi, 146 : 35-, 1989
18 Takashi Noguchi, "Ultra Low Sheet Resistance on Poly Silicon Film by Excimer Laser Activation" 한국물리학회 48 (48): 47-50, 2006
19 T. Kamins, "Polycrystalline Silicon for Integrated Circuit Applications" Kluwer Academic Publishers 112-, 1988
20 N. Matsuo, "IEICE Tech. Report" 2000
21 Takashi Noguchi, "Electrical Activation of Boron in Si Film Using Excimer Laser Annealing" 한국물리학회 54 (54): 463-466, 2009
22 Do Young Kim, "Effect of Thermal Annealing on Sputtered a-Si Film" 한국물리학회 45 (45): 847-850, 2004
23 K. Kanzaki, "Dig. of Tech. Papers on AM-LCD 01"