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오존과 초음파를 이용한 실리콘 웨이퍼의 Post Sliced Cleaning
최은석, 배소익,Choi, Eun-Suck,Bae, So-Ik 한국재료학회 2006 p.75-79
세정액에 따른 실리콘 웨이퍼의 Cu 및 Fe 불순물 제거
김인정, 배소익,Kim, In-Jung,Bae, So-Ik 한국재료학회 2006 p.80-84
CaAl2Si2O8를 입계상으로 가지는 Al2O3 계면의 분자동력학 시뮬레이션
신순기, Shin, Soon-Gi 한국재료학회 2006 p.92-98
IPA 저온 접합법을 이용한 PMMA Micro CE Chip의 제작
차남구, 박창화,임현우,조민수,박진구,Cha, Nam-Goo,Park, Chang-Hwa,Lim, Hyun-Woo,Cho, Min-Soo,Park, Jin-Goo 한국재료학회 2006 p.99-105
Co2(CO)8 (Dicobalt Octacarbonyl) 전구체를 이용한 MOCVD Co 박막의 균일한 증착 특성 및 높은 순도에 관한 연구
이정길, 이재갑,Lee, Jeong-Gil,Lee, Jae-Gab 한국재료학회 2006 p.106-110
Zr57V36Fe7게터합금의 수소흡수특성에 미치는 분쇄의 영향
박제신, 서창열,심건주,김원백,Park, Je-Shin,Suh, Chang-Youl,Shim, Gun-Choo,Kim, Won-Baek 한국재료학회 2006 p.116-122
실리카 함유 콜로이달 분무용액으로부터 합성된 BAM:Mn 형광체
주서희, 구혜영,홍승권,김도엽,강윤찬,Ju, Seo-Hee,Koo, Hye-Young,Hong, Seung-Kwon,Kim, Do-Youp,Kang, Yun-Chan 한국재료학회 2006 p.123-128
용융아연 도금욕중 Al농도 센서의 기준전극에 대한 연구
정우광, 정세혁,Jung, W.G.,Jung, S.H. 한국재료학회 2006 p.129-136
SJR(SCImago Journal Rank)는 스페인 Consejo Superior de Investigaciones Cintificas의 Felix de Moya 교수에 의해 개발된 것으로, '모든 인용은 동등하지 않다'는 전제를 기반으로 둔 학술지의 영향력 지수입니다.
구글의 Page Rank 알고리즘의 영향을 받아 전체 인용 네트워크에서 노드에 점수를 매기는 방식으로, 명성이 높은 저널에서의 인용은 고득점으로 평가되어 같은 인용이라도 보다 높게 평가 됩니다. 또한 저널의 주제분야, 질과 명성이 모두 직접 영향을 미치는 평가 지료라고 할 수 있습니다.
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