SiO2/Si 기판의 산소 플라즈마 전처리를 통한 이황화 몰리브덴 박막의 두께 균일성 향상 연구 = Enhanced thickness uniformity of MoS2 thin films on SiO2/Si substrates via substrate pre-treatment with oxygen plasma

목차 (Table of Contents)

• 1. 서론 1
• 2. 문헌 연구 3
• 2.1 그래핀(Graphene) 3
• 2.2 전이금속 칼코겐화합물(TMD) 5
• 2.2.1 이황화 몰리브덴(MoS2) 6
• 2.3 화학 기상 증착법(Chemical vapor deposition) 8
• 2.3.1 화학 기상 증착법을 이용한 이황화 몰리브덴 박막 합성 8
• 2.4 선행 연구 10
• 2.4.1 이황화 몰리브덴 박막 균일도 증가를 위한 연구 10
• 3. 실험 방법 11
• 3.1 화학 기상 증착법을 이용한 이황화 몰리브덴 박막 합성 11
• 3.1.1 박막 합성 방법 및 실험 조건 11
• 3.2 합성된 이황화 몰리브덴 박막의 특성 분석 12
• 3.2.1 기판 접촉각 측정 12
• 3.2.2 Raman spectroscopy 분석 13
• 3.2.3 TEM 분석 13
• 3.2.4 AFM 측정 13
• 4. 실험결과 및 고찰 14
• 4.1 산소 플라즈마 전처리 영향 평가 14
• 4.2.1 접촉각 측정 14
• 4.2.2 시각적 색상 차이 14
• 4.2 이황화 몰리브덴(MoS2) 박막의 두께 분석 16
• 4.2.1 Raman spectroscopy 분석 16
• 4.2.2 TEM 분석 18
• 4.3 기판 위 산소 플라즈마 처리 영향 19
• 4.4 AFM 분석 22
• 5. 결론 23
• 참고 문헌 24
• 영문 초록(Abstract) 30
• 감사의 글 32