RISS 학술연구정보서비스

검색

인기 검색어

    다국어 입력

    http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.

    변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.

    예시)
    • 中文 을 입력하시려면 zhongwen을 입력하시고 space를누르시면됩니다.
    • 北京 을 입력하시려면 beijing을 입력하시고 space를 누르시면 됩니다.
    닫기
    KCI등재

    수직형 식각 장비의 노즐 분사 시스템에 대한 연구 = A Research of Nozzle Spray System of Vertical Type Etcher

    한글로보기

    https://www.riss.kr/link?id=A104658727

    • 0

      상세조회
    • 0

      다운로드
    서지정보 열기
    • 내보내기
    • 내책장담기
    • 공유하기
    • 오류접수
    인용문이 복사되었습니다.

    부가정보

    다국어 초록 (Multilingual Abstract) kakao i 다국어 번역

    The recent PCB (Printed Circuit Board) wet etcher has been needed to process pattern within 20μm width on a 40μm-thick board. A previous PCB etcher can be used with multiple points of roller rolls or slips off a board. Also, the damage of the board by contacting the roller increases the friction defects. A vertical type boards transporting process is developed to solve the problems of boards friction and sagging in a horizontal etcher. In this research, CFD (Computational Fluid Dynamics) method is used to design an improved spray nozzle including the critical part of etcher, and establish the design method. Meanwhile, major spray characteristics are expected in diverse nozzle types and variables. Lastly, diverse simulation results are adapted to design an improved nozzle and spray system.
    번역하기

    The recent PCB (Printed Circuit Board) wet etcher has been needed to process pattern within 20μm width on a 40μm-thick board. A previous PCB etcher can be used with multiple points of roller rolls or slips off a board. Also, the damage of the board ...

    The recent PCB (Printed Circuit Board) wet etcher has been needed to process pattern within 20μm width on a 40μm-thick board. A previous PCB etcher can be used with multiple points of roller rolls or slips off a board. Also, the damage of the board by contacting the roller increases the friction defects. A vertical type boards transporting process is developed to solve the problems of boards friction and sagging in a horizontal etcher. In this research, CFD (Computational Fluid Dynamics) method is used to design an improved spray nozzle including the critical part of etcher, and establish the design method. Meanwhile, major spray characteristics are expected in diverse nozzle types and variables. Lastly, diverse simulation results are adapted to design an improved nozzle and spray system.

    더보기

    참고문헌 (Reference)

    1 서지한, "초소형 노즐 유동장에 관한 수치적 연구" 한국전산유체공학회 12 (12): 38-43, 2007

    2 한국기술교육대학교 반도체장비기술교육센터, "반도체일반과정 교재" 한국기술교육대학교 반도체장비기술교육센터 85-88,

    3 유선중, "다구찌 방법을 이용한 BGA 현상 공정용 수직 습식 장비의 공정 최적화" 한국진공학회 18 (18): 310-317, 2009

    4 "Star – CCM+ User Guide –Ver. 5.04"

    5 Patankar, S. V, "Numerical Heat Transfer and Fluid Flow" McGraw-Hill 1980

    6 한명신, "Navier-Stokes CFD 모델을 이용한 소형노즐 유동장 해석" 한국항공우주학회 699-702, 2004

    7 윤순현, "Fundamentals of Fluid Mechanics, Fifth Edition" 학술정보 2006

    1 서지한, "초소형 노즐 유동장에 관한 수치적 연구" 한국전산유체공학회 12 (12): 38-43, 2007

    2 한국기술교육대학교 반도체장비기술교육센터, "반도체일반과정 교재" 한국기술교육대학교 반도체장비기술교육센터 85-88,

    3 유선중, "다구찌 방법을 이용한 BGA 현상 공정용 수직 습식 장비의 공정 최적화" 한국진공학회 18 (18): 310-317, 2009

    4 "Star – CCM+ User Guide –Ver. 5.04"

    5 Patankar, S. V, "Numerical Heat Transfer and Fluid Flow" McGraw-Hill 1980

    6 한명신, "Navier-Stokes CFD 모델을 이용한 소형노즐 유동장 해석" 한국항공우주학회 699-702, 2004

    7 윤순현, "Fundamentals of Fluid Mechanics, Fifth Edition" 학술정보 2006

    더보기

    동일학술지(권/호) 다른 논문

    동일학술지 더보기

    더보기

    분석정보

    View

    상세정보조회

    0

    Usage

    원문다운로드

    0

    대출신청

    0

    복사신청

    0

    EDDS신청

    0

    동일 주제 내 활용도 TOP

    더보기

    주제

    연도별 연구동향

    연도별 활용동향

    연관논문

    연구자 네트워크맵

    공동연구자 (7)

    유사연구자 (20) 활용도상위20명

    인용정보 인용지수 설명보기

    학술지 이력

    학술지 이력
    연월일 이력구분 이력상세 등재구분
    2027 평가 재인증평가 신청대상 (재인증)
    2021-01-01 등재 등재학술지 유지 (재인증) KCI등재
    2019-01-01 등재 등재학술지 유지 (계속평가) KCI등재
    2016-01-01 등재 등재학술지 유지 (계속평가) KCI등재
    2012-01-01 등재 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
    2010-03-25 학회명변경 한글명 : 한국반도체및디스플레이장비학회 -> 한국반도체디스플레이기술학회
    영문명 : The Korean Society of Semiconductor & Display Equipment Technology -> The Korean Society of Semiconductor & Display Technology
    KCI등재
    2010-03-25 학술지명변경 한글명 : 반도체및디스플레이장비학회지 -> 반도체디스플레이기술학회지
    외국어명 : Journal of the Semiconductor and Display Equipment Technology -> Journal of the Semiconductor & Display Technology
    KCI등재
    2009-01-01 등재 등재학술지 선정 (등재후보2차) KCI등재
    2008-01-01 등재 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) KCI등재후보
    2006-01-01 등재 등재후보학술지 선정 (신규평가) KCI등재후보
    더보기

    학술지 인용정보

    학술지 인용정보
    기준연도 WOS-KCI 통합IF(2년) KCIF(2년) KCIF(3년)
    2016 0.29 0.29 0.26
    KCIF(4년) KCIF(5년) 중심성지수(3년) 즉시성지수
    0.21 0.18 0.217 0.02
    더보기

    이 자료와 함께 이용한 RISS 자료

    나만을 위한 추천자료

    해외이동버튼