항복전압 향상을 위해 As+ 이온을 주입한 AlGaN/GaN 쇼트키 장벽 다이오드 = 1.2㎸ AlGaN/GaN Schottky Barrier Diode Employing As+ Ion Implantation on SiO₂Passivation layer

국문 초록 (Abstract)

SiO₂ 패시베이션 층에 As+ 이온을 주입한 1.2 ㎸급 AlGaN/GaN 쇼트키 장벽 다이오드( Schottky Barrier Diode , SBD )를 제작하였다. 주입된 As+ 이온들은 역방향 바이어스에서 공핍 영역의 곡률을 변화 시켰고, 이로 인해 항복 전압이 증가하고 누설 전류가 감소하였다. 제안된 소자의 항복전압이 1204 V 이었고, 기존 소자의 항복전압은 604 V 이었다. 캐소드 전압이 100 V일 때 제안된 소자의 누설전류는 21.2 ㎁/㎜ 이었고, 같은 조건에서 제안된 소자는 80.3 ㎂/㎜ 이었다. 주입된 As+ 양이온은 이차원 전자 가스( Two-Dimensional Electron Gas, 2DEG )에 전자를 유도했고, 채널의 농도가 미세하게 증가하였다. 따라서 순방향 전류가 증가하였다.