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Advances in Physically Based Erosion Simulators for CMP
Runnels, S. R Minerals, Metals & Materials Society and the Institute of Electrical and Electronics Engineers [etc.] 1996 p.p1574-1580
Chemical-Mechanical Polishing of Oxide Thin Films: The Rebinder-Westwood Phenomenon Revisited
Rajan, K Minerals, Metals & Materials Society and the Institute of Electrical and Electronics Engineers [etc.] 1996 p.p1581-1584
C Implantation and Surface Degradation of InGaP
Vartuli, C. B Minerals, Metals & Materials Society and the Institute of Electrical and Electronics Engineers [etc.] 1996 p.p1640-1644
Correlation of Photoluminescence Linewidths with Carrier Concentration in p-Ga~0~.~5~2In~0~.~4~8P
Arent, D. J Minerals, Metals & Materials Society and the Institute of Electrical and Electronics Engineers [etc.] 1996 p.p1633-1636
Palmer, J. W Minerals, Metals & Materials Society and the Institute of Electrical and Electronics Engineers [etc.] 1996 p.p1645-1651
Distribution Systems for CMP: The New Challenge
Korman, R Minerals, Metals & Materials Society and the Institute of Electrical and Electronics Engineers [etc.] 1996 p.p1608-1611
Electrochemical Effects in the Chemical-Mechanical Polishing of Copper for Integrated Circuits
Sainio, C. A Minerals, Metals & Materials Society and the Institute of Electrical and Electronics Engineers [etc.] 1996 p.p1593-1598
Fresina, M. T Minerals, Metals & Materials Society and the Institute of Electrical and Electronics Engineers [etc.] 1996 p.p1637-1639
The Importance of Particle Size and the Performance of Abrasive Particles in the CMP Process
Pohl, M. C Minerals, Metals & Materials Society and the Institute of Electrical and Electronics Engineers [etc.] 1996 p.p1612-1616
Investigation of Pad Deformation and Conditioning During the CMP of Silicon Dioxide Films
Achuthan, K Minerals, Metals & Materials Society and the Institute of Electrical and Electronics Engineers [etc.] 1996 p.p1628-1632
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