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Ultra-thin SiO2 film studies: index, thickness, roughness and the initial oxidation regime
A. Irene, E. PERGAMON PRESS 2001 p.1207-1217
Ultra-thin SiO~2 film studies: index, thickness, roughness and the initial oxidation regime
Irene, E. A. Elsevier 2001 p.1207-1218
Formation of atomically smooth, ultrathin oxides on Si(113)
Mussig, H. J. PERGAMON PRESS 2001 p.1219-1231
Formation of atomically smooth, ultrathin oxides on Si(113)
Mussig, H.-J.;Dabrowski, J.;Hinrich, S. Elsevier 2001 p.1219-1232
Szymanski, M. A. PERGAMON PRESS 2001 p.1233-1240
Theory and applications of internal photoemission in the MOS system at low electric fields
Przewlocki, H. M. PERGAMON PRESS 2001 p.1241-1250
Herden, M. PERGAMON PRESS 2001 p.1251-1256
Feasibility of an isolation by local oxidation of silicon without field implant
Fay, J. L. PERGAMON PRESS 2001 p.1257-1263
Feasibility of an isolation by local oxidation of silicon without field implant
Fay, J. L.;Beluch, J.;Despax, B.;Sarrabayrouse, G. Elsevier 2001 p.1257-1264
Pic, N. PERGAMON PRESS 2001 p.1265-1270
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