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Reactive ionized physical vapor deposition of thin films
Konstantinidis, S.; Snyders, R. EDP SCIENCES 2011 p.24002
A study of physical processes in microplasma capillary discharges
Denisova, N.; Bogans, E.; Revalde, G.; Skudra, J. EDP SCIENCES 2011 p.24003
Influence of nitrogen impurities on the formation of active species in Ar-O~2 plasmas
Guerra, V.; Kutasi, K.; Sa, P.A.; da Silva, M.L. EDP SCIENCES 2011 p.24004
2D simulation of active species and ozone production in a multi-tip DC air corona discharge
Meziane, M.; Eichwald, O.; Sarrette, J.P.; Ducasse, O.; Yousfi, M. EDP SCIENCES 2011 p.24005
Computational study of sheath structure in chemically active plasmas
Cerny, P.; Novak, S.; Hrach, R.; Hrachova, V. EDP SCIENCES 2011 p.24006
Transition from edge-localized to center-localized power deposition in helicon discharges
Curreli, D. EDP SCIENCES 2011 p.24007
Hydrodynamic study of a microwave plasma torch
Gadonna, K.; Leroy, O.; Silva, T.; Leprince, P.; Boisse-Laporte, C.; Alves, L.L. EDP SCIENCES 2011 p.24008
LIF spectroscopy of OH radicals in a micro-flow DC discharge in Ar and He with a liquid electrode
Nikiforov, A.; Li, L.; Xiong, Q.; Leys, C.; Lu, X.P. EDP SCIENCES 2011 p.24009
Ternary association of H^+ ion with H~2 at 11 K, experimental study
Zymak, I.; Jusko, P.; Roucka, S.; Plasil, R.; Rubovic, P.; Gerlich, D.; Glosik, J. EDP SCIENCES 2011 p.24010
Cryo-FALP study of collisional-radiative recombination of Ar^+ ions at 40-200 K
Kotrik, T.; Dohnal, P.; Rubovic, P.; Plasil, R.; Roucka, S.; Opanasiuk, S.; Glosik, J. EDP SCIENCES 2011 p.24011
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