RISS 학술연구정보서비스

검색
다국어 입력

http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.

변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.

예시)
  • 中文 을 입력하시려면 zhongwen을 입력하시고 space를누르시면됩니다.
  • 北京 을 입력하시려면 beijing을 입력하시고 space를 누르시면 됩니다.
닫기
    인기검색어 순위 펼치기

    RISS 인기검색어

      KCI등재

      ESD 전극을 이용한 분무코팅 균일도 개선에 관한 연구 = Improvement of Spray Coating Uniformity using ESD Electrodes

      한글로보기
      • 내보내기
      • 내책장담기
      • 공유하기
      • 오류접수

      부가정보

      다국어 초록 (Multilingual Abstract) kakao i 다국어 번역

      In this study, experiments are conducted to improve spray coating uniformity by using second and third electrodes based on the electrospray atomization mechanism. The uniformity of fabricated thin films can be improved by adjusting the design of the second electrode. The implementation of the second electrode with an elongated hole and a bending angle of 90° results in highly uniform films. In addition, induced area to substrate is increased by lowering the applied voltage using the third electrode with a round rod shape. A linear correlation between applied voltage and induced area is confirmed. Thin film thickness and surface roughness are measured after the fabrication of thin films through the electrospray process. It is confirmed that a thin film is formed having an average thickness of 273.44 ㎚, a thickness uniformity of less than 10%, and a surface roughness of 3 ㎚.
      번역하기

      In this study, experiments are conducted to improve spray coating uniformity by using second and third electrodes based on the electrospray atomization mechanism. The uniformity of fabricated thin films can be improved by adjusting the design of the s...

      In this study, experiments are conducted to improve spray coating uniformity by using second and third electrodes based on the electrospray atomization mechanism. The uniformity of fabricated thin films can be improved by adjusting the design of the second electrode. The implementation of the second electrode with an elongated hole and a bending angle of 90° results in highly uniform films. In addition, induced area to substrate is increased by lowering the applied voltage using the third electrode with a round rod shape. A linear correlation between applied voltage and induced area is confirmed. Thin film thickness and surface roughness are measured after the fabrication of thin films through the electrospray process. It is confirmed that a thin film is formed having an average thickness of 273.44 ㎚, a thickness uniformity of less than 10%, and a surface roughness of 3 ㎚.

      더보기

      목차 (Table of Contents)

      • ABSTRACT
      • 1. 서론
      • 2. 정전분무 기반의 노즐 시스템
      • 3. 분무노즐의 코팅 균일도 제어
      • 4. 박막코팅 및 성능평가
      • ABSTRACT
      • 1. 서론
      • 2. 정전분무 기반의 노즐 시스템
      • 3. 분무노즐의 코팅 균일도 제어
      • 4. 박막코팅 및 성능평가
      • 5. 결론
      • REFERENCES
      더보기

      참고문헌 (Reference)

      1 당현우, "용액 미립화공정 기반의 마이크로 스텐실 프린팅에 관한 연구" 한국정밀공학회 31 (31): 483-489, 2014

      2 김동건, "에어리스 스프레이 도장용 노즐 팁 설계에 관한 연구" 한국기계가공학회 11 (11): 183-188, 2012

      3 김호찬, "마이크로 마스크를 가진 미세입자분사가공을 위한 가공경로의 생성" 한국기계가공학회 10 (10): 95-101, 2011

      4 윤해룡, "UV-LED를 이용한 광조형장치 개발" 한국기계가공학회 13 (13): 15-20, 2014

      5 Gamero Castano, M., "On the Current Emitted by Taylor Cone-jets of Electrolytes in Vacuo : Implications for Liquid Metal Ion Sources" 83 (83): 2428-2434, 1998

      6 Zeng, J., "Electro-Hydrodynamic Modeling of Electrospray Ionization : CAD for A Fluidic Device-Mass μ Spectrometer Interface" 2 : 1275-1278, 2003

      7 Duraisamy, N., "Deposition and Characterization of Silver Nanowires embedded PEDOT:PSS Thin Films via Electrohydrodynamic Atomization" 225 (225): 887-894, 2013

      8 Seto, T., "Condensation of Supersaturated Vapors on Monovalent and Divalent Ions of Varying Size" 107 (107): 1576-1585, 1997

      9 Muhammad, N. M., "CIS Layer Deposition through Electrospray Process for Solar Cell Fabrication" 11 (11): S68-S75, 2011

      10 Kim, J. N., "Analysis of Material Flow System in LCD production Line Using Digital Manufacturing" 733-740, 2008

      1 당현우, "용액 미립화공정 기반의 마이크로 스텐실 프린팅에 관한 연구" 한국정밀공학회 31 (31): 483-489, 2014

      2 김동건, "에어리스 스프레이 도장용 노즐 팁 설계에 관한 연구" 한국기계가공학회 11 (11): 183-188, 2012

      3 김호찬, "마이크로 마스크를 가진 미세입자분사가공을 위한 가공경로의 생성" 한국기계가공학회 10 (10): 95-101, 2011

      4 윤해룡, "UV-LED를 이용한 광조형장치 개발" 한국기계가공학회 13 (13): 15-20, 2014

      5 Gamero Castano, M., "On the Current Emitted by Taylor Cone-jets of Electrolytes in Vacuo : Implications for Liquid Metal Ion Sources" 83 (83): 2428-2434, 1998

      6 Zeng, J., "Electro-Hydrodynamic Modeling of Electrospray Ionization : CAD for A Fluidic Device-Mass μ Spectrometer Interface" 2 : 1275-1278, 2003

      7 Duraisamy, N., "Deposition and Characterization of Silver Nanowires embedded PEDOT:PSS Thin Films via Electrohydrodynamic Atomization" 225 (225): 887-894, 2013

      8 Seto, T., "Condensation of Supersaturated Vapors on Monovalent and Divalent Ions of Varying Size" 107 (107): 1576-1585, 1997

      9 Muhammad, N. M., "CIS Layer Deposition through Electrospray Process for Solar Cell Fabrication" 11 (11): S68-S75, 2011

      10 Kim, J. N., "Analysis of Material Flow System in LCD production Line Using Digital Manufacturing" 733-740, 2008

      더보기

      동일학술지(권/호) 다른 논문

      동일학술지 더보기

      더보기

      분석정보

      View

      상세정보조회

      0

      Usage

      원문다운로드

      0

      대출신청

      0

      복사신청

      0

      EDDS신청

      0

      동일 주제 내 활용도 TOP

      더보기

      주제

      연도별 연구동향

      연도별 활용동향

      연관논문

      연구자 네트워크맵

      공동연구자 (7)

      유사연구자 (20) 활용도상위20명

      인용정보 인용지수 설명보기

      학술지 이력

      학술지 이력
      연월일 이력구분 이력상세 등재구분
      2026 평가예정 재인증평가 신청대상 (재인증)
      2020-01-01 평가 등재학술지 유지 (재인증) KCI등재
      2017-01-01 평가 등재학술지 유지 (계속평가) KCI등재
      2013-01-01 평가 등재 1차 FAIL (등재유지) KCI등재
      2010-01-01 평가 등재학술지 선정 (등재후보2차) KCI등재
      2009-01-01 평가 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) KCI등재후보
      2008-01-01 평가 등재후보 1차 FAIL (등재후보1차) KCI등재후보
      2007-01-01 평가 등재후보학술지 유지 (등재후보1차) KCI등재후보
      2005-01-01 평가 등재후보학술지 선정 (신규평가) KCI등재후보
      더보기

      학술지 인용정보

      학술지 인용정보
      기준연도 WOS-KCI 통합IF(2년) KCIF(2년) KCIF(3년)
      2016 0.77 0.77 0.62
      KCIF(4년) KCIF(5년) 중심성지수(3년) 즉시성지수
      0.53 0.47 0.441 0.13
      더보기

      이 자료와 함께 이용한 RISS 자료

      나만을 위한 추천자료

      해외이동버튼