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이 학술지의 논문 검색
Shallow Si N+P junction diodes realized via molecular monolayer doping
Tapriya, Astha; Novak, Brian; Williams, Scott; Kurinec, Santosh Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2018 p.1-6
Easy alignment strategy for multi-level micropatterning
Estève, Aurore; Dollat, Xavier; Lin, Laura; Lin, David; Cerf, Aline Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2018 p.7-12
Impact of sub- and supra- threshold switching in the synaptic behavior of TiO2 memristors
Ghenzi, N.; Levy, P. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2018 p.13-17
Sub-10nm electron and helium ion beam lithography using a recently developed alumina resist
Cattoni, Andrea; Mailly, Dominique; Dalstein, Olivier; Faustini, Marco; Seniutinas, Gediminas; Rösner, Benedikt; David, Christian Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2018 p.18-22
Lisunova, Y.; Brugger, J. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2018 p.23-27
Inductively coupled plasma nanoetching of atomic layer deposition alumina
Han, Anpan; Chang, Bingdong; Todeschini, Matteo; Le, Hoa Thanh; Tiddi, William; Keil, Matthias Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2018 p.28-33
3D free forms in c-Si via grayscale lithography and RIE
Khazi, Isman; Muthiah, Uma; Mescheder, Ulrich Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2018 p.34-40
Fabrication of the grid pattern on a roll mold by electron beam direct writing
Takano, Yuta; Taniguchi, Jun Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2018 p.41-46
Fabrication of multilayered structure of silver nanorod arrays for plasmon memory
Wadayama, Hisahiro; Okabe, Takao; Taniguchi, Jun Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2018 p.47-53
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