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Special issue on Nano Lithography 2013
Prewett, P.; Durrani, Z. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2014 p.vii
Bolten, J.; Manecke, C.; Wahlbrink, T.; Waldow, M.; Kurz, H. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2014 p.1-3
A scalable anti-sticking layer process via controlled evaporation
Steinberg, C.; Dhima, K.; Blenskens, D.; Mayer, A.; Wang, S.; Papenheim, M.; Scheer, H. C.; Zajadacz, J.; Zimmer, K. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2014 p.4-8
Alignment verification for electron beam lithography
Thoms, S.; Macintyre, D. S.; Docherty, K. E.; Weaver, J. M. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2014 p.9-12
Alternative emitter substrates for Ionic Liquid Ion Source implementation in focused ion beams
Perez-Martinez, C.; Rojas-Herrera, J.; Lozano, P. C. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2014 p.13-17
Roll-to-roll nanoimprint lithography for patterning on a large-area substrate roll
Lim, H.; Choi, K. b.; Kim, G.; Lee, S.; Park, H.; Ryu, J.; Jung, S.; Lee, J. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2014 p.18-22
Anti-sticking layers for nickel-based nanoreplication tools
Padeste, C.; Bellini, S.; Siewert, D.; Schift, H. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2014 p.23-27
Subwavelength imaging of self-assembled triangular array through a silver superlens
Liu, J.; Xia, W.; Zhang, S.; Dong, Q.; Guo, X.; Zhang, Z. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2014 p.28-32
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