Effects of Substrate and Deposition Temperature on the Morphology of a-Si:H = 시료기판과 증착온도가 수소화된 비정질 규소의 미세구조에 미치는 영향

국문 초록 (Abstract)

투과 및 주사 전자현미경으로 사일래인의 백열방전으로 만든 수소화된 비정질 규소의 구조를 조사하였다. 시료의 미세구조는 증착온도에는 물론 이제까지 별로 주의를 기울이지 않았던 시료기판에도 크게 의존함을 발견하였다. 본 연구에서는 시료기판과 증착 온도에 따른 시료의 미세구조변화를 증착표면에서의 규소원자 이동도가 다르기 때문에 생긴 것으로 설명한다.

다국어 초록 (Multilingual Abstract)

Scanning and transmission electron microscopy were used to study the effects of substrate and deposition temperature on the growing morphology of DC glow-discharge a-Si:H. It is shown that the microstructural surface of samples is sensitively dependent on substrate material as well as deposition temperature and it can be understood on the basis of the different surface mobility of depositing atoms.

목차 (Table of Contents)

• Ⅰ. Introduction
• Ⅱ. Experiment
• Ⅲ. Results and Discussion
• Ⅳ. Conclusion