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      FLR 구조의 1.2kV급 4H-SiC MOSFET 제작과 특성에 관한 연구 = Fabrication and Characterization of a 1.2kV 4H-SiC MOSFET with a Field Limiting Ring (FLR) Structure

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      https://www.riss.kr/link?id=T17278807

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      목차 (Table of Contents)

      • Ⅰ.서론 1
      • 1. 연구 배경 및 목적 1
      • 2. SiC 물성적 특성 6
      • 3. SiC MOSFET 개요 12
      • 4. SiC MOSFET 구조 및 동작 원리 18
      • Ⅰ.서론 1
      • 1. 연구 배경 및 목적 1
      • 2. SiC 물성적 특성 6
      • 3. SiC MOSFET 개요 12
      • 4. SiC MOSFET 구조 및 동작 원리 18
      • 5. 성능 평가용 PiN Diode 개요 22
      • Ⅱ. SiC MOSFET 설계 및 제작 24
      • 1. 시뮬레이션 기반 구조 설계 24
      • 1) 활성영역(Active area) 설계 26
      • 2) 종단 구조(Edge termination) 설계 29
      • 2. 주요 단위 공정 31
      • 1) 이온주입 하드마스크 31
      • 2) 게이트 산화막 형성 37
      • 3) Ohmic contact 공정 39
      • 3. 소자 제작 45
      • 1) FLR 검증용 PiN 다이오드 제작 45
      • 2) SiC MOSFET 소자 제작 48
      • Ⅲ. 전기적 특성 측정 및 평가 방법 51
      • Ⅳ. 실험 결과 및 고찰 53
      • 1. 시뮬레이션 결과 분석 53
      • 1) SiC MOSFET 활성영역 전기적 특성 53
      • 2) FLR 구조의 종단영역 전기적 특성 57
      • 2. 제작 소자의 전기적 특성 분석 61
      • 1) PiN 다이오드의 FLR 구조에 따른 전기적 특성 61
      • 2) SiC MOSFET의 전기적 특성 65
      • Ⅴ. 결론 및 향후 연구 75
      • 1. 결론 75
      • 2. 향후 연구 방향 77
      • Reference 79
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