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The Expanding Role of Rapid Thermal Processing in CMOS Manufacturing
Nakos, J.; Shepard, J. Stafa-Zurich; United Kingdom; Trans-Tech Publications Ltd. 2008 p.3-20
Evolution of Commercial RTP Modules
Peuse, B. Stafa-Zurich; United Kingdom; Trans-Tech Publications Ltd. 2008 p.21-34
Fast Diffusion in Germanium and Silicon Investigated by Lamp-Based Rapid Thermal Annealing
Stolwijk, N.; Lerner, L.; Giese, A.; Lerch, W. Stafa-Zurich; United Kingdom; Trans-Tech Publications Ltd. 2008 p.35-44
Rapid Thermal Processing and the Control of Oxygen Precipitation Behaviour in Silicon Wafers
Falster, R.; Voronkov, V. Stafa-Zurich; United Kingdom; Trans-Tech Publications Ltd. 2008 p.45-60
High Temperature RTP Application in SOI Manufacturing
Maleville, C.; Neyret, E.; Delprat, D.; Ecarnot, L. Stafa-Zurich; United Kingdom; Trans-Tech Publications Ltd. 2008 p.61-76
Cleaning of Silicon Surfaces for Nanotechnology
Senftleben, O.; Baumgartner, H.; Eisele, I. Stafa-Zurich; United Kingdom; Trans-Tech Publications Ltd. 2008 p.77-118
Heavy Water in Gate Stack Processing
Pap, A.E.; Ducso, C.; Kamaras, K.; Battistig, G.; Barsony, I. Stafa-Zurich; United Kingdom; Trans-Tech Publications Ltd. 2008 p.119-132
Advanced Gate Dielectric Development for VLSI Technology
Ma, Y. Stafa-Zurich; United Kingdom; Trans-Tech Publications Ltd. 2008 p.133-146
A Growth Kinetics Model for the Radical Oxidation of Silicon
Storbeck, O.; Pethe, W.; Hayn, R. Stafa-Zurich; United Kingdom; Trans-Tech Publications Ltd. 2008 p.147-152
Trentzsch, M.; Golz, C.; Wieczorek, K.; Stephan, R.; Mantei, T.; Bayha, B.; Ohsiek, S.; Raab, M.; Nenyei, Z.; Lerch, W. Stafa-Zurich; United Kingdom; Trans-Tech Publications Ltd. 2008 p.153-164
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