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      KCI등재 SCI SCIE SCOPUS

      Field Emission Properties of -C:N Films Deposited on Diamond Substrates

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      https://www.riss.kr/link?id=A104322660

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      Amorphous carbon-nitride films were grown on the nitridated diamond substrates by pulsed discharge of nitrogen gas by using graphite rods as the electrodes. The deposition parameters were optimized by monitoring the discharge plasma by optical-emissi...

      Amorphous carbon-nitride films were grown on the nitridated diamond substrates by pulsed discharge of nitrogen gas by using graphite rods as the electrodes.
      The deposition parameters were optimized by monitoring the discharge plasma by optical-emission spectroscopy. It is demonstrated that the films were mainly a mixture of sp2 C-N, sp3 C-N and graphite nanocrystallites.
      Preliminary results show that deposited films have a cold-cathode-emission property. The threshold field for field emission is about 4.0 V/μm. The linear Fowler-Nordheim characteristic reveals that the fieldemission process is based on the tunneling mechanism.

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      참고문헌 (Reference)

      1 ".-S246- Journal of the Korean Physical Society" 46 : 1999

      1 ".-S246- Journal of the Korean Physical Society" 46 : 1999

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      학술지 인용정보

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      기준연도 WOS-KCI 통합IF(2년) KCIF(2년) KCIF(3년)
      2016 0.47 0.15 0.31
      KCIF(4년) KCIF(5년) 중심성지수(3년) 즉시성지수
      0.26 0.2 0.26 0.03
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