PECVD에 의해 제조된 Sb-doped SnO₂박막의 광학적성질 = Optical properties of Sb-doped SnO₂thin films deposited by PECVD

국문 초록 (Abstract)

플라즈마를 이용한 화학증착법 (PECVD)으로 Corning glass 1737 기판에 Sb-doped SnO2 박막을 증착하였다. 플라즈마 화학증착시 반응변수에 따른 박막의 결정상, 표면형상 및 광투과도를 XRD, SEM, AFM 과 그리고 UV-VIS-NIR Spectrophotometer를 이용하여 분석하였다. Thermal CVD에 비해 PECVD법은 박막의 증착속도를 향상시켰고, 박막의 표면형상을 보다 균일하게 하였다. 반응온도 450℃, 유입가스비 R=1.12, RF power 30W에서 결정성과 광투과도가 비교적 뛰어난 Sb-doped tin oxide films을 얻을 수 있었다.

다국어 초록 (Multilingual Abstract)

Sb-doped tin oxide films were deposited on Coming glass 1737 substrate by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technique. The films deposited at different reaction parameters were investigated by using XRD, SEM, AFM, and UV-VIS-NIR Spectrophotometer. Compared to thermal CVD,PECVD effectively enhanced the deposition rate and smoothed the surface of tin oxide films. Sb-doped tin oxide films which have a relatively good crystallinity and photo-transmission were obtained at deposition temperature 450℃, input gas ratio R=1.12, and RF power 30W.

목차 (Table of Contents)

• 1.서론
• 2.실험방법
• 2.1 Sb-doped SnO2 박막제조
• 2.2 박막의 물성측정
• 3.결과 및 고찰
• 3.1 박막의 표면형상
• 3.2 박막의 결정상
• 3.3 박막의 광학적성질
• 4.결론