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      Enhanced Anti-reflective Effect of SiNx/SiOx/InSnO Multi-layers using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System with Hybrid Plasma Source

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      https://www.riss.kr/link?id=A104447634

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      Multi-layer films of SiNx/SiOx/InSnO with anti-reflective effect were grown by new-concept plasma enhanced chemical vapor deposition system (PECVD) with hybrid plasma source (HPS). Anti-reflective effect of SiNx/ SiOx/InSnO was investigated as a function of ratio of SiNx and SiOx thickness. Multi-layers deposited by PECVD with HPS represents the enhancement of anti-reflective effect with high transmittance, comparing to the layers by conventional radio frequency (RF) sputtering system. This change is strongly related to the optical and physical properties of each layer, such as refractive index, composition, film density, and surface roughness depending on the deposition system.
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      Multi-layer films of SiNx/SiOx/InSnO with anti-reflective effect were grown by new-concept plasma enhanced chemical vapor deposition system (PECVD) with hybrid plasma source (HPS). Anti-reflective effect of SiNx/ SiOx/InSnO was investigated as a funct...

      Multi-layer films of SiNx/SiOx/InSnO with anti-reflective effect were grown by new-concept plasma enhanced chemical vapor deposition system (PECVD) with hybrid plasma source (HPS). Anti-reflective effect of SiNx/ SiOx/InSnO was investigated as a function of ratio of SiNx and SiOx thickness. Multi-layers deposited by PECVD with HPS represents the enhancement of anti-reflective effect with high transmittance, comparing to the layers by conventional radio frequency (RF) sputtering system. This change is strongly related to the optical and physical properties of each layer, such as refractive index, composition, film density, and surface roughness depending on the deposition system.

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      참고문헌 (Reference)

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      2014-02-06 학술지명변경 한글명 : ASCT -> Applied Science and Convergence Technology KCI등재
      2014-02-05 학술지명변경 한글명 : 한국진공학회지 -> ASCT
      외국어명 : Journal of the Koren Vacuum Society -> Applied Science and Convergence Technology      		 KCI등재
      2014-01-01 학술지명변경 한글명 : 한국진공학회지 -> Applied Science and Convergence Technology KCI등재
      2013-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2010-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2008-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2005-05-23 학술지명변경 외국어명 : Journal of the Koren Cacuum Society -> Journal of the Koren Vacuum Society KCI등재
      2005-01-01 평가 등재학술지 선정 (등재후보2차) KCI등재
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      2016 0.12 0.12 0.15
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