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      자기기록유도박막헤드용 Ni-Fe 합금박막의 제조와 연자기적특성에 관한 연구 = A Study on the Soft magnetic properties and manufacturing processes of Ni-Fe alloy films for thin film inductive heads

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      https://www.riss.kr/link?id=A19596514

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      국문 초록 (Abstract)

      자기기록 유도박막헤드용 81Ni-19Fe wt% 합금박막의 적정제조조건과 연자기적성질에 대해 연구하였다. 본 연구에서는 magnetoelectrolysis법을 사용하여 81Ni-19Fe wt%의 조성으로 2㎛두께의 유도박막헤...

      자기기록 유도박막헤드용 81Ni-19Fe wt% 합금박막의 적정제조조건과 연자기적성질에 대해 연구하였다. 본 연구에서는 magnetoelectrolysis법을 사용하여 81Ni-19Fe wt%의 조성으로 2㎛두께의 유도박막헤드소자를 제작하였다. 적정한 전기도금조건은 NiSO_4·6H_2O : 200g/l, FeSO_4·7H_2O : 8g/l, Ni치_2·6H_2O : 5g/l H_3BO_3 : 40g/l, 사카린 : 3g/l, 라우릴황산나트륨 : 0.05G/L, 전류밀도 : 5mA/㎠, 도금액 온도 : 39℃, 교반 rpm : 375 rpm, 양극과 음극사이의 거리 : 5cm, 인가자장 : 300 Oe였다. 적정 도금조건으로 제조된 막은 열처리전의 보자력은 0.15Oe 포화자속밀도는 8kG 수준이었으나, 300℃, 400 Oe 조건으로 열처리한 후 조사한 자지적특성은 보자력이 자화곤란축 : 0.03Oe, 자화용이축 : 0.07 Oe으로 매우 낮은 값이였고, 포화자속밀도는 9.7kG이상의 양호한 연자기적 특성을 보였다.

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      Optimal manufacturing conditions and soft magnetic properties of 81Ni-19Fe wt% thin films for thin film inductive (TFI) heads have been studied. TFI element (81Ni-19Fe wt% films with 2 ㎛ thickness) was fabricated by using an magnetoelectrolysis meth...

      Optimal manufacturing conditions and soft magnetic properties of 81Ni-19Fe wt% thin films for thin film inductive (TFI) heads have been studied. TFI element (81Ni-19Fe wt% films with 2 ㎛ thickness) was fabricated by using an magnetoelectrolysis method. The most suitable electroplating conditions were as follows ; NiSO_4 · 6H_2O : 200 g/l , FeSO_4·7H_2O : 8g/l, NiCl_2·6H_2O : 5g/l H_BO_3 : 40 g/l saccharin : 3 g/l, sodium lauryl sulfate : 0.05 g/l, current density : 5 mA/㎠, plating bath temperature : 39℃, agitation : 375 rpm, anode-cathode distance : 5 cm and applied magnetic field : 300 Oe. By the above optimal electroplating conditions, we observed that the electroplated films had the soft magnetic properties of low coercivity (<0.15 Oe) and high 4πM_s, (>8 kG). The better soft magnetic properties of the films were achieved under the magnetic field annealing at 300℃ After annealing, the coercivity of film was 0.03 Oe at the hard axis and 0.07 Oe at the easy axis, whereas the 4πM_s of film was 9.7 kG.

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