1 A. Bolonkin, 44 : 1538-1542, 2008
2 C. Ornaghi, 150 : 287-291, 2003
3 V. M. Aroutiounian, 517 : 4403-4404, 2002
4 M. Y. Levy, 55 : 706-711, 2008
5 이정주, "진공증착법에 의해 제작된 Cd₂GeSe₄와 Cd₂GeSe₄:Co²+ 박막의 물리적 특성" 한국진공학회 18 (18): 459-467, 2009
6 안민형, "인라인 스퍼터링에 의한 저항막 방식 터치패널용 ITO 기판 제조공정 최적화 기술" 한국진공학회 18 (18): 440-446, 2009
7 Minsung Jeon, "Intrinsic Amorphous Silicon (a-Si:H) Thin Film Prepared by Using Remote Plasma Chemical Vapor Deposition Method and Used as a Passivation Layer for a Heterojunction Solar Cell" 한국물리학회 54 (54): 194-199, 2009
8 Jeong Kim, "Formation of a Porous Silicon Anti-Reflection Layer for a Silicon Solar Cell" 한국물리학회 50 (50): 1168-1171, 2007
9 Bianca Postels, "Dye-Sensitized Solar Cells on the Basis of ZnO Nanorods" 한국물리학회 53 (53): 115-118, 2008
10 H. Jin, "Chemical States and Band-Gap Energy for Plasma-Nitrided Ultrathin Si Oxynitride Film" 한국물리학회 51 (51): 1042-1045, 2007
1 A. Bolonkin, 44 : 1538-1542, 2008
2 C. Ornaghi, 150 : 287-291, 2003
3 V. M. Aroutiounian, 517 : 4403-4404, 2002
4 M. Y. Levy, 55 : 706-711, 2008
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10 H. Jin, "Chemical States and Band-Gap Energy for Plasma-Nitrided Ultrathin Si Oxynitride Film" 한국물리학회 51 (51): 1042-1045, 2007