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      산화분위기하에서 silicon Carbide의 반응기구 = Reaction Mechanism of the Silicon Carbide in the O₂-Atmophere

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      https://www.riss.kr/link?id=A2076396

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      SiC powder was heated in air over the temperature range of 1100-1350℃.The β-cristobalite was formed on the surfaces of SiC particles by the reaction:
      SiC(s) + 2O₂(g) = SiO₂(s) + Co₂(g)
      It is assumed that the diffusion od oxygen ion through the formed surface layer of β-cristobalite controled oxidation of the SiC particles.
      The diffusion coefficient of oxygen ion through the β-cristobalite layer was obtained as the following equation:
      D=3.84 × ?? exp (-14.7/RT)
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      SiC powder was heated in air over the temperature range of 1100-1350℃.The β-cristobalite was formed on the surfaces of SiC particles by the reaction: SiC(s) + 2O₂(g) = SiO₂(s) + Co₂(g) It is assumed that the diffusion od oxygen...

      SiC powder was heated in air over the temperature range of 1100-1350℃.The β-cristobalite was formed on the surfaces of SiC particles by the reaction:
      SiC(s) + 2O₂(g) = SiO₂(s) + Co₂(g)
      It is assumed that the diffusion od oxygen ion through the formed surface layer of β-cristobalite controled oxidation of the SiC particles.
      The diffusion coefficient of oxygen ion through the β-cristobalite layer was obtained as the following equation:
      D=3.84 × ?? exp (-14.7/RT)

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      목차 (Table of Contents)

      • 1. 서론
      • 2. 이론
      • 3. 실험방법
      • 4. 결과 및 고찰
      • 5. 결론
      • 1. 서론
      • 2. 이론
      • 3. 실험방법
      • 4. 결과 및 고찰
      • 5. 결론
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