CVD로 제작된 SiO2 산화막의 투습특성|RISS 상세보기

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ⅰ ⅱ ⅲ ⅳ ⅴ ⅵ ⅶ ⅷ ⅸ ⅹ Ⅰ Ⅱ Ⅲ Ⅳ Ⅴ Ⅵ Ⅶ Ⅷ Ⅸ Ⅹ

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CVD로 제작된 SiO2 산화막의 투습특성 = Water Vapor Permeability of SiO2 Oxidative Thin Film by CVD

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https://www.riss.kr/link?id=A103665827

저자

이붕주 ; 신현용 ; Lee, Boong-Joo ; Shin, Hyun-Yong
발행기관
한국전자통신학회
학술지명
한국전자통신학회 논문지(The Journal of The Korea Institute of Electronic Communication Sciences)
권호사항

Vol.5 No.1 [2010]
발행연도
2010
작성언어
Korean
주제어

HDP-CVD (high density plasma-chemical vapor deposition) ; WVTR(water vapor transmission rate) ; $SiO_2$
등재정보
KCI등재
자료형태
학술저널
수록면

81-87(7쪽)
제공처
ScienceON

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다국어 초록 (Multilingual Abstract)

In this paper, we have fabricated $SiO_2$ oxidation thin films by HDP-CVD(high density plasma-chemical vapor deposition) method for passivation layer or barrier layer of OLED(organic light emitting diode). We have control and estimate the deposition rate and relative index characteristics with process parameters and get optimized conditions. They are gas flow rate($SiH_4:O_2$=30:60[sccm]), 70 [mm] distance from source to substrate and no-bias. The WVTR(water vapor transmission rate) is 2.2 [$g/m^2$_day]. Therefore fabricated thin film can not be applied as passivation layer or barrier layer of OLED.

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In this paper, we have fabricated $SiO_2$ oxidation thin films by HDP-CVD(high density plasma-chemical vapor deposition) method for passivation layer or barrier layer of OLED(organic light emitting diode). We have control and estimate the deposition r...

In this paper, we have fabricated $SiO_2$ oxidation thin films by HDP-CVD(high density plasma-chemical vapor deposition) method for passivation layer or barrier layer of OLED(organic light emitting diode). We have control and estimate the deposition rate and relative index characteristics with process parameters and get optimized conditions. They are gas flow rate($SiH_4:O_2$=30:60[sccm]), 70 [mm] distance from source to substrate and no-bias. The WVTR(water vapor transmission rate) is 2.2 [$g/m^2$_day]. Therefore fabricated thin film can not be applied as passivation layer or barrier layer of OLED.