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Electronic stopping power of Ta for Z = 11-18 atoms at energies 0-0.8 MeVnucleon
P. Tikkanen Elsevier BV 1989 p.103-109
Round Robin computer simulation of ejection probability in sputtering
P. Sigmund; M.T. Robinson; M.I. Baskes; M. Hautala; H.M. Urbassek Elsevier BV 1989 p.110-123
Depth of origin; angular spectrum of sputtered atoms
M. Vicanek; J.J.Jimenez Rodriguez; P. Sigmund Elsevier BV 1989 p.124-136
A spatial damage energy distribution calculation for ion-implanted materials
C. Vieu; A. Claverie; J. Faure; J. Beauvillain Elsevier BV 1989 p.137-147
Si+ ion beam mixing of tin layers on crystalline silicon
G. Massouras; J.A. Roger; L. Romana; G. Fuchs Elsevier BV 1989 p.148-152
Ion mixing kinetics study by in situ resistance measurements in the Au/Si system
Jian Li; L.H. Allen; J.W. Mayer Elsevier BV 1989 p.153-156
Ion implantation of Ti into Al into Ti in the presence of residual; backfilled gases
B. Hoffmann; H. Baumann; F. Rauch; K. Bethge Elsevier BV 1989 p.157-162
C. Ascheron; A. Schindler; R. Flagmeyer; G. Otto Elsevier BV 1989 p.163-172
Direct evidence of chemical reactions associated with MeV ion-beam enhanced adhesion
Zhengyuan Chen; Jiarui Liu Elsevier BV 1989 p.173-177
Application of heavy ions to high depth resolution RBS
D.J. O'connor; Tan Chunyu Elsevier BV 1989 p.178-188
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