RISS 학술연구정보서비스

검색

인기 검색어

    다국어 입력

    http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.

    변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.

    예시)
    • 中文 을 입력하시려면 zhongwen을 입력하시고 space를누르시면됩니다.
    • 北京 을 입력하시려면 beijing을 입력하시고 space를 누르시면 됩니다.
    닫기
    KCI등재 SCOPUS

    0.1 $\mu$m InGaAs/InAlAs Metamorphic High Electron Mobility Transistor (MHEMT)에서의 온도에 따른 수송 현상 분석} = Temperature Dependence of the Transport in 0.1-$\mu$m InGaAs/InAlAs Metamorphic High Electron Mobility Transistors (MHEMTs)

    한글로보기

    https://www.riss.kr/link?id=A104318513

    • 0

      상세조회
    • 0

      다운로드
    서지정보 열기
    • 내보내기
    • 내책장담기
    • 공유하기
    • 오류접수

    부가정보

    다국어 초록 (Multilingual Abstract) kakao i 다국어 번역

    We have investigated electrical transport in a metamorphic
    InAlAs/InGaAs high electron mobility transistor (MHEMT) with a
    0.1-$\mu$m gate channel length as a function of temperature. Typical
    HEMT I-V characteristics are observed from 300 K to 10 K. As the
    temperature is decreased down to $\sim$60 K, the Hall mobility is
    enhanced due to a reduction in the phonon scattering. The ballistic
    mobility is extracted as a function of temperature using the I-V
    measurements and self-consistent Schr\"{o}dinger-Poisson potential
    modeling, and the results are compared with the theoretical values.
    We found that the transmission coefficient increased from 0.72 to
    0.85 with decreasing temperature.
    번역하기

    We have investigated electrical transport in a metamorphic InAlAs/InGaAs high electron mobility transistor (MHEMT) with a 0.1-$\mu$m gate channel length as a function of temperature. Typical HEMT I-V characteristics are observed from 300 K to 10 K. As...

    We have investigated electrical transport in a metamorphic
    InAlAs/InGaAs high electron mobility transistor (MHEMT) with a
    0.1-$\mu$m gate channel length as a function of temperature. Typical
    HEMT I-V characteristics are observed from 300 K to 10 K. As the
    temperature is decreased down to $\sim$60 K, the Hall mobility is
    enhanced due to a reduction in the phonon scattering. The ballistic
    mobility is extracted as a function of temperature using the I-V
    measurements and self-consistent Schr\"{o}dinger-Poisson potential
    modeling, and the results are compared with the theoretical values.
    We found that the transmission coefficient increased from 0.72 to
    0.85 with decreasing temperature.

    더보기

    국문 초록 (Abstract) kakao i 다국어 번역

    본 연구에서는 0.1 $\mu$m 채널 길이를 갖는 InGaAs/InAlAs Metamorphic
    High Electron Mobility Transistor (MHEMT)의 온도에 따른 수송 현상을
    분석하였다. 소자의 I-V 특성은 300 K부터 10 K의 온도 범위에서
    측정하였다. 또한, MHEMT 소자와 같은 에피층을 갖는 홀 바 (Hall bar)를
    제작하여 2D 홀 측정을 하였으며, 온도가 감소함에 따라 이동도는 phonon
    scattering이 주된 요인으로 작용하여 60 K까지 선형적으로 증가하는
    것을 확인하였다. Ballistic mobility는 I-V 측정과 self-consistent
    Schr\"{o}dinger-Poisson 포텐셜 모델링을 통해 온도별로 추출하여
    이론값과 실험값을 비교하였다. 그 결과, 온도가 감소함에 따라 전송
    확률은 0.72에서 0.85까지 증가하였다.
    번역하기

    본 연구에서는 0.1 $\mu$m 채널 길이를 갖는 InGaAs/InAlAs Metamorphic High Electron Mobility Transistor (MHEMT)의 온도에 따른 수송 현상을 분석하였다. 소자의 I-V 특성은 300 K부터 10 K의 온도 범위에서 측정...

    본 연구에서는 0.1 $\mu$m 채널 길이를 갖는 InGaAs/InAlAs Metamorphic
    High Electron Mobility Transistor (MHEMT)의 온도에 따른 수송 현상을
    분석하였다. 소자의 I-V 특성은 300 K부터 10 K의 온도 범위에서
    측정하였다. 또한, MHEMT 소자와 같은 에피층을 갖는 홀 바 (Hall bar)를
    제작하여 2D 홀 측정을 하였으며, 온도가 감소함에 따라 이동도는 phonon
    scattering이 주된 요인으로 작용하여 60 K까지 선형적으로 증가하는
    것을 확인하였다. Ballistic mobility는 I-V 측정과 self-consistent
    Schr\"{o}dinger-Poisson 포텐셜 모델링을 통해 온도별로 추출하여
    이론값과 실험값을 비교하였다. 그 결과, 온도가 감소함에 따라 전송
    확률은 0.72에서 0.85까지 증가하였다.

    더보기

    참고문헌 (Reference)

    1 Wonill Ha, 29 : 419-, 2008

    2 Nambin Kim, 90 : 142102-, 2007

    3 B.-J. Moon, 40 : 1711-, 1993

    4 Min Han, 35 : 973-, 2004

    5 Yongmin Kim, 87 : 072106-, 2005

    6 M. Lundstrom, 18 : 361-, 1997

    7 Michael S. Shur, 23 : 511-, 2002

    8 Paul M., "Solomon and Hadis Morkoc" ED-31 : 1015-, 1984

    9 Jing Wang, "Member and Mark Lundstrom" 50 : 1604-, 2003

    10 Kwyro Lee, "Fjeldly and Trond ytterdal Semiconductor Device Modeling for VLSI" Prentice-Hall, Inc 469-, 1993

    1 Wonill Ha, 29 : 419-, 2008

    2 Nambin Kim, 90 : 142102-, 2007

    3 B.-J. Moon, 40 : 1711-, 1993

    4 Min Han, 35 : 973-, 2004

    5 Yongmin Kim, 87 : 072106-, 2005

    6 M. Lundstrom, 18 : 361-, 1997

    7 Michael S. Shur, 23 : 511-, 2002

    8 Paul M., "Solomon and Hadis Morkoc" ED-31 : 1015-, 1984

    9 Jing Wang, "Member and Mark Lundstrom" 50 : 1604-, 2003

    10 Kwyro Lee, "Fjeldly and Trond ytterdal Semiconductor Device Modeling for VLSI" Prentice-Hall, Inc 469-, 1993

    11 Supriyo Datta, "Electronic Transport in Mesoscopic Systems" Cambridge University Press 48-69, 1997

    더보기

    동일학술지(권/호) 다른 논문

    분석정보

    View

    상세정보조회

    0

    Usage

    원문다운로드

    0

    대출신청

    0

    복사신청

    0

    EDDS신청

    0

    동일 주제 내 활용도 TOP

    더보기

    주제

    연도별 연구동향

    연도별 활용동향

    연관논문

    연구자 네트워크맵

    공동연구자 (7)

    유사연구자 (20) 활용도상위20명

    인용정보 인용지수 설명보기

    학술지 이력

    학술지 이력
    연월일 이력구분 이력상세 등재구분
    2023 평가 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가)
    2020-01-01 등재 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) KCI등재
    2016-09-05 학술지명변경 외국어명 : Sae Mulli(New Physics) -> New Physics: Sae Mulli KCI등재
    2015-01-01 등재 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
    2011-01-01 등재 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
    2009-01-01 등재 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
    2007-01-01 등재 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
    2004-01-01 등재 등재학술지 선정 (등재후보2차) KCI등재
    2003-01-01 등재 등재후보 1차 PASS (등재후보1차) KCI등재후보
    2002-01-01 등재 등재후보학술지 유지 (등재후보1차) KCI등재후보
    1999-07-01 등재 등재후보학술지 선정 (신규평가) KCI등재후보
    더보기

    학술지 인용정보

    학술지 인용정보
    기준연도 WOS-KCI 통합IF(2년) KCIF(2년) KCIF(3년)
    2016 0.18 0.18 0.17
    KCIF(4년) KCIF(5년) 중심성지수(3년) 즉시성지수
    0.15 0.14 0.3 0.1
    더보기

    이 자료와 함께 이용한 RISS 자료

    나만을 위한 추천자료

    해외이동버튼