LCD 제조 장비

목차 (Table of Contents)

• 목차
• 제1장 서론
• 보고서 작성 목적 및 배경 = 2
• 제2장 LCD제조 장비의 기술 및 시장동향
• 제1절 LCD 제조 장비의 기술 동향 = 4
• 1. 레이저 절단 장비 = 4
• 1.1 기판 절단 장비 = 4
• 1.2 레이저 절단 관련 업체 = 5
• 2. 액정 적하 장치 = 6
• 2.1 액정 주입 장치 (공지기술) = 6
• 2.2 액정 적하 장치 = 7
• 3. LCD 노광 기술 = 9
• 3.1 CF 노광장치 = 9
• 3.2 TFT 노광 장치 = 10
• 4. SEAL 공정장비의 기술 분류 = 11
• 4.1 SEAL 인쇄장치 = 12
• 4.2 SEAL 봉지장치 = 14
• 4.3 SEAL 경화공정 = 16
• 5. LCD 식각 기술 = 17
• 5.1 습식 식각(wet etching) = 17
• 5.2 건식 식각 (dry etching) = 18
• 6. LCD 검사 장비 = 21
• 6.1 LCD AOI (광학 검사장치) = 21
• 6.2 Probe Station (회로 검사장치) = 21
• 6.3 LCD 백라이트 유닛의 검사장치 (광학 검사장치) = 22
• 6.4 LCD 모듈의 검사장치 (광학 검사장치) = 23
• 7. LCD 중착 기술 = 24
• 7.1 물리적 증착 기술(PVD) = 24
• 7.2 화학적 증착 기술(CVD) = 25
• 제2절 LCD 제조 장비의 시장동향 = 27
• 1. 세계 TFT-LCD 시장 전망 = 27
• 2. 세계 TFT-LCD 장비 시장 동향 = 30
• 제3장 LCD 제조 장비의 세부주제별 특허동향
• 제1절 LCD 제조 장비 특허의 전반적 동향 = 33
• 1. 한국의 특허 동향 = 33
• 1.1 연도별 기술별 특허동향 = 33
• 1.2 기술별 국가별 특허동향 = 34
• 1.3 기술별 연구주체별 특허동향 = 35
• 제2절 레이저 절단 장치의 특허 동향 = 36
• 1. 레이저 절단 장치의 분석 기준 = 36
• 1.1 분석 방법 = 36
• 1.2 분석 대상 및 분석 건수 = 37
• 2. 전세계 특허동향 = 38
• 2.1 연도별 특허동향 = 38
• 2.2 국가별 내ㆍ외국인 출원 분포 = 39
• 3. 한국의 특허동향 = 40
• 3.1 기술 발전 포트폴리오 = 40
• 3.2 연도별 특허동향 = 41
• 3.3 출원인별 특허동향 = 42
• 3.4 국가별 특허 점유율 = 43
• 3.5 IPC 기술분류별 특허동향 = 43
• 4. 일본의 특허동향 = 45
• 4.1 기술 발전 포트폴리오 = 45
• 4.2 연도별 특허동향 = 46
• 4.3 출원인별 특허동향 = 47
• 4.4 국가별 특허 점유율 = 48
• 4.5 IPC 기술분류별 특허동향 = 48
• 제3절 액정(Liquid Crystal) 적하 장치 = 49
• 1. 액정 적하장치의 분석 기준 = 49
• 1.1 분석 방법 = 49
• 1.2 분석 대상 및 분석 건수 = 49
• 2. 전세계 특허동향 = 51
• 2.1 연도별 특허동향 = 51
• 2.2 국가별 내ㆍ외국인 출원 분포 = 52
• 3. 한국의 특허동향 = 53
• 3.1 기술 발전 포트폴리오 = 53
• 3.2 연도별 특허동향 = 54
• 3.3 출원인별 특허동향 = 55
• 3.4 국가별 특허 점유율 = 56
• 3.5 IPC 기술분류별 특허동향 = 56
• 4. 일본의 특허동향 = 57
• 4.1 기술 발전 포트폴리오 = 57
• 4.2 연도별 특허동향 = 58
• 4.3 출원인별 특허동향 = 59
• 4.4 국가별 특허 점유율 = 60
• 4.5 IPC 기술분류별 특허동향 = 60
• 제4절 LCD 노광장비 분야 특허동향 = 61
• 1. LCD 노광장비 분야 분석기준 = 61
• 1.1 분석범위 = 61
• 1.2 검색식 = 62
• 2. 전세계 특허동향 = 63
• 2.1 연도별 특허동향 = 63
• 2.2 국가별 특허동향 = 64
• 2.3 포트폴리오로 본 식각장비분야의 위치 = 65
• 3. 한국의 특허동향 = 66
• 3.1 연도별 특허동향 = 66
• 3.2 출원인별 특허동향 = 67
• 3.3 국가별 점유율 = 68
• 3.4 IPC 기술분류별 특허동향 = 69
• 4. 일본의 특허동향 = 70
• 4.1 연도별 특허동향 = 70
• 4.2 출원인별 특허동향 = 71
• 4.3 국가별 점유율 = 72
• 4.4 IPC 기술분류별 특허동향 = 73
• 제5절 SEAL 공정 장비 = 74
• 1. SEAL 공정장비의 특허 분석 기준 = 74
• 1.1 분석 방법 = 74
• 1.2 검색식 및 분석 자료 개수 = 75
• 2. 전세계 특허동향 = 76
• 2.1 연도별 특허동향 = 76
• 2.2 국가별 내ㆍ외국인 출원 분포 = 77
• 3. 한국의 특허동향 = 78
• 3.1 기술 발전 포트폴리오 = 78
• 3.2 연도별 특허동향 = 79
• 3.3 출원인별 특허동향 = 80
• 3.4 기술분류별 특허동향 = 81
• 3.5 국가별 특허 점유율 = 82
• 4. 일본의 특허동향 = 83
• 4.1 기술 발전 포트폴리오 = 83
• 4.2 연도별 특허동향 = 84
• 4.3 출원인별 특허동향 = 85
• 4.4 기술분류별 특허동향 = 86
• 4.5 국가별 특허 점유율 = 87
• 제6절 LCD 식각장비 분야 특허동향 = 88
• 1. LCD 식각장비 분야 분석기준 = 88
• 1.1 분석범위 = 88
• 1.2 검색식 = 88
• 2. 전세계 특허동향 = 89
• 2.1 연도별 특허동향 = 89
• 2.2 국가별 특허동향 = 90
• 2.3 포트폴리오로 본 식각장비분야의 위치 = 91
• 3. 한국의 특허동향 = 92
• 3.1 연도별 특허동향 = 92
• 3.2 출원인별 특허점유율 및 주요출원인 = 93
• 3.3 국가별 점유율 = 94
• 3.4 기술별 특허동향 = 95
• 3.5 IPC 기술분류별 특허동향 = 97
• 4. 일본의 특허동향 = 98
• 4.1 연도별 특허동향 = 98
• 4.2 출원인별 특허점유율 및 주요출원인 = 99
• 4.3 국가별 점유율 = 100
• 4.4 기술별 특허동향 = 101
• 4.5 IPC 기술분류별 특허동향 = 103
• 제7절 LCD 검사장비 분야 특허동향 = 104
• 1. LCD 검사장비 분야 분석기준 = 104
• 1.1 검색식 = 104
• 2. 전세계 특허동향 = 105
• 2.1 연도별 특허동향 = 105
• 2.2 국가별 특허동향 = 106
• 2.3 포트폴리오로 본 검사 장비분야의 위치 = 107
• 3. 한국의 특허동향 = 108
• 3.1 연도별 특허동향 = 108
• 3.2 출원인별 특허점유율 및 주요출원인 = 109
• 3.3 국가별 점유율 = 110
• 3.4 기술별 특허동향 = 111
• 3.5 IPC 기술분류별 특허동향 = 113
• 4. 일본의 특허동향 = 114
• 4.1 연도별 특허동향 = 114
• 4.2 출원인별 특허점유율 및 주요출원인 = 115
• 4.3 국가별 점유율 = 116
• 4.4 기술별 특허동향 = 117
• 4.5 IPC 기술분류별 특허동향 = 119
• 제8절 LCD 증착장비 분야 특허동향 = 120
• 1. LCD 증착장비 분야 분석기준 = 120
• 1.1 분석범위 = 120
• 2. 전세계 특허동향 = 121
• 2.1 연도별 특허동향 = 121
• 2.2 국가별 특허동향 = 122
• 2.3 포트폴리오로 본 증착장비분야의 위치 = 123
• 3. 한국의 특허동향 = 125
• 3.1 연도별 특허동향 = 125
• 3.2 출원인별 특허점유율 및 주요출원인 = 126
• 3.3 국가별 점유율 = 127
• 3.4 기술별 특허동향 = 128
• 3.5 IPC 기술분류별 특허동향 = 130
• 4. 일본의 특허동향 = 131
• 4.1 연도별 특허동향 = 131
• 4.2 출원인별 특허점유율 및 주요출원인 = 132
• 4.3 국가별 점유율 = 133
• 4.4 기술별 특허동향 = 134
• 4.5 IPC 기술분류별 특허동향 = 135
• 제4장 결론
• 결어 = 137