유기적으로 개질된 알콕시 실란과 광중합이 가능한 단량체인 방향쪽 메타아크릴레이트를 이용하여 졸-겔 공정으로 포토폴리머 박막을 제조하였다. 가시광에 감응하는 포토폴리머 박막을 1 ...
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2002
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500
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학술저널
22-28(7쪽)
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유기적으로 개질된 알콕시 실란과 광중합이 가능한 단량체인 방향쪽 메타아크릴레이트를 이용하여 졸-겔 공정으로 포토폴리머 박막을 제조하였다. 가시광에 감응하는 포토폴리머 박막을 1 ...
유기적으로 개질된 알콕시 실란과 광중합이 가능한 단량체인 방향쪽 메타아크릴레이트를 이용하여 졸-겔 공정으로 포토폴리머 박막을 제조하였다. 가시광에 감응하는 포토폴리머 박막을 1 밀리미터 이상의 두께로 제조할 수 있었다. 포토폴리머 박막 내의 방향족 메타아크릴레이트는 532 mn의 가시광선에 의해 50 %이상의 광중합이 성공적으로 진행되었으며, 광중합은 FT-IR과 photo-DSC에 의해 측정되었다. 이 포토폴리머 박막을 홀로그래픽 메모리에 응용하였다. 평면과 회절 흘로그램은 532 nm의 두 평행광의 간섭을 이용하여 포토폴리머 박막에 기록하였으며, 직각 화소의 글씨 이미지는 포토폴리머 박막에서 완벽하게 고 분해 이미지로 재생되었다.
다국어 초록 (Multilingual Abstract)
Photopolymer· film was prepared by sol-gel process using organically modified alkoxy silanes and an aromatic methacrylate (AMA). Photopolymer films having visible light sensitivity could be fabricated in thickness up to ~ 1 millimeter. AMA in the pho...
Photopolymer· film was prepared by sol-gel process using organically modified alkoxy silanes and an aromatic methacrylate (AMA). Photopolymer films having visible light sensitivity could be fabricated in thickness up to ~ 1 millimeter. AMA in the photopolymer film was successfully photgpolymerized by visible light of 532nm with a conversion higher than 50 %. The photopolymerization was moritored by FT-IR and photo-DSC. These photopolymer films could be applied to a holographic memory. Plane-wave-grating holograms could be written onto the photopolymer film by interfering two collimated plane wave beams of 532 nm The original lector image with rectangular pixel was completely reconstructed on the photopolymer film with high resolution.
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